[发明专利]导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂、其溶液、使用它们的任意一者制造而成的导电性高分子及使用该导电性高分子作为电解质的电解电容器有效

专利信息
申请号: 201580010128.9 申请日: 2015-02-18
公开(公告)号: CN106062033B 公开(公告)日: 2017-09-05
发明(设计)人: 杉原良介;山口太一;鹤元雄平 申请(专利权)人: 帝化株式会社
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;H01G9/028
代理公司: 北京三幸商标专利事务所(普通合伙)11216 代理人: 刘淼
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 导电性 高分子 制造 氧化剂 掺杂 溶液 使用 它们 任意 一者 作为 电解质 电解电容器
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂、其溶液、使用它们的任意一者制造而成的导电性高分子及使用该导电性高分子作为电解质的电解电容器。

背景技术

导电性高分子通过其高导电性,可被作为例如铝电解电容器、钽电解电容器、铌电解电容器等的电解质而使用。

作为此用途中的导电性高分子而言,可使用例如将噻吩或其衍生物等进行化学氧化聚合或电解氧化聚合而得到的产物。

作为进行上述噻吩或其衍生物等的化学氧化聚合时的掺杂剂而言,主要使用有机磺酸,作为氧化剂而言,使用过渡金属,其中以铁为宜,通常当噻吩或其衍生物等进行化学氧化聚合时,有机磺酸的铁盐被作为氧化剂兼掺杂剂而使用(专利文献1、专利文献2)。

但是,使用有机磺酸的铁盐作为氧化剂兼掺杂剂制造导电性高分子,并使用该导电性高分子作为电解质而制造成的电解电容器,具有漏电流多、尤其在高温环境中漏电流增多的问题。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2003-160647号公报

专利文献2:日本特开2004-265927号公报

发明内容

[发明所欲解决的课题]

因此,本发明的目的为提供一种导电性高分子制造用的氧化剂兼掺杂剂及其溶液,该导电性高分子制造用的氧化剂兼掺杂剂及其溶液能制造适于制造漏电流少的电解电容器的导电性高分子;并且提供一种适于制造漏电流少的电解电容器的导电性高分子,其使用上述氧化剂兼掺杂剂及其溶液的任意一者来制造;并且提供使用该导电性高分子作为电解质而制造的漏电流少的电解电容器。

[用于解决课题的手段]

本发明为解决如上述的课题而重复专心研究,发现在有机磺酸铁中添加特定的磷酸类添加剂、亚磷酸类添加剂、硼酸类添加剂、硫代磷酸类添加剂或二硫代磷酸类添加剂所制备的氧化剂兼掺杂剂,可解决上述课题,并且基于此而完成。

也即,本发明涉及一种导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂,其特征为含有有机磺酸铁,以及从磷酸、磷酸酯、亚磷酸、亚磷酸酯、硼酸、硼酸酯、硫代磷酸、硫代磷酸酯、二硫代磷酸及二硫代磷酸酯构成的群组中选出的至少1种。

又,如果在上述导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂中添加具有缩水甘油基的化合物或其开环化合物,则可制造除了原本漏电流少的特性外,破坏电压高(也即,耐电压性优良)的电解电容器。因此,本发明也以在上述导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂中含有具有缩水甘油基的化合物或其开环化合物的导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂作为发明的对象,然后,也以将这些导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂溶解于水、醇或水与醇的混合液中的导电性 高分子制造用氧化剂兼掺杂剂溶液;使用这些导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂或其溶液,将噻吩或其衍生物等单体氧化聚合所制造而成的导电性高分子;使用该导电性高分子作为电解质的电解电容器作为发明的对象。

[发明的效果]

如果依照本发明,可提供一种导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂或其溶液,该导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂或其溶液能制造适合制造漏电流少的电解电容器的导电性高分子。

又,如果依照本发明,可通过使用上述导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂或其溶液而提供适合制造漏电流少的电解电容器用的导电性高分子。

而且,可通过使用该导电性高分子而提供漏电流少的电解电容器。

具体实施方式

[用于实施发明的态样]

本发明的导电性高分子制造用氧化剂兼掺杂剂,如前所述,包含:有机磺酸铁,以及从磷酸、磷酸酯、亚磷酸、亚磷酸酯、硼酸、硼酸酯、硫代磷酸、硫代磷酸酯、二硫代磷酸及二硫代磷酸酯构成的群组中选出的至少1种而构成,而关于其中的有机磺酸铁,由于包括迄今使用于本领域者的多数均可使用,故首先针对与其合用的特定酸或酸酯成分加以说明。

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