[发明专利]光学元件的倾斜

说明书

本发明涉及一种光学单元，尤其是分段镜单元，其具有光学元件(109)和支撑装置(111)，其中，光学元件(109)具有尤其是长条形的光学表面(109.1)，所述光学表面定义主延伸平面(PME)和在主延伸平面(PME)中的主延伸方向。支撑装置(111)包括支撑单元和促动器单元(113)，其中，促动器单元(113)设计用于使光学表面倾斜，方式为通过促动器单元(113)在光学元件(109)上施加倾斜力矩(M1)，其中，倾斜力矩(M1)倾斜于主延伸平面(PME)地延伸。支撑单元(112)设计用于在光学表面由于促动器单元(113)的倾斜力矩(M1)倾斜时预设用于光学表面(109.1)的倾斜轴线(TA1、TA2)，所述倾斜轴线基本上处于光学表面的主延伸平面(PME)中。

互为参考的相关申请

本申请尤其根据35 U.S.C.§119要求保护于2014年8月5日提交的德国专利申请102014 215 452.9的利用和优先权。所述德国专利申请的公开内容明确地包含在本申请中。

背景技术

本发明涉及一种光学单元以及一种用于支撑光学单元的方法。本发明能够与任意的光学装置或者光学成像方法相关地使用。本发明尤其能够与在制造微电子电路时应用的微光刻或者用于微光刻的测量系统相关地使用。

尤其在微光刻领域，除了应用以尽可能高的精度设计的部件还要求在运行中尽可能准确地按照预设的额定值调节成像装置的位置和光学模块(例如具有光学元件如透镜、镜子或者光栅和所应用的遮挡器件和基底的模块)的几何形状，或者使处于预设的位置或几何形状中的部件稳定，以便实现相应较高的成像质量。

在微光刻领域，在显微术领域中的精度要求在几纳米或者更小的数量级。在此，它们也是不断需要提高在制造微电子电路时应用的光学系统的分辨率以便推进待制造的微电子电路的小型化的结果。

随着分辨率的提高和通常由此带来的所用光线波长的减小，对于所使用的部件的位置和定向的精度要求自然升高。这尤其对于在微光刻中使用的紫外线范围内(例如193nm范围内)的较小工作波长，但尤其是在工作波长在5nm至20nm之间的所谓的极紫外范围(EUV)中(例如13nm范围内)影响了用于保持对涉及部件的定位和/或定向的较高精度要求的耗费。

尤其与前述EUV系统相关地，用于成像的光线的强度分布的细化影响越来越重要。为此，通常使用所谓的分段镜(“Facettenspiegel”：亦可称“分面反射镜”)，其中多个最小的分段元件(“Facettenelement”：亦可称“分面元件”)相对于可预设的参考以尽可能紧密的栅格阵布置，所述分段元件的光学有效表面具有准确定义的位置和/或定向。在此，(例如对于照明设置的转换)非常期望或者说需要的是，改变分段元件的定向，因此使其光学表面倾斜。

由相应的公开内容通过引用包含在本发明中的DE 102 05 425 A1(Holderer等人)以及DE 10 2008 009 600 A1(Dinger)与EUV系统的分段镜的分段元件的定义的定位和定向相关地已知，单独地调校这些分段元件。为此，分段元件借助相应的倾斜力矩围绕通过支撑结构定义的倾斜轴线倾斜，所述倾斜力矩通过配属的促动器单元施加在分段元件上。

对于由DE 102 05 425 A1已知的旋转对称的分段元件中的一些，倾斜轴线处于光学表面的主延伸平面中，其中，通过促动器单元施加的倾斜力矩平行于光学表面的主延伸平面延伸，因此能够在分段元件不从设置用于分段元件的结构空间中侧向移出的情况下实现光学表面的单纯倾斜。

由于倾斜时没有侧向移出，已知的分段元件原则上可以彼此特别紧密地定位，也就是不需要在分段元件之间存在较大缝隙。然而在此的问题是，旋转对称的构造本身导致相对较少地利用面积或者分段元件之间相对较大的空隙，在所述空隙中可能导致相对较大的光损失。