[发明专利]半导体输送部件和半导体载置部件在审
申请号: | 201580044887.7 | 申请日: | 2015-08-18 |
公开(公告)号: | CN106663650A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 前野洋平 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;C01B32/158;H01L21/683 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 龙淳,池兵 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 输送 部件 | ||
技术领域
本发明涉及半导体输送部件和半导体载置部件。
背景技术
在输送硅晶片等半导体时,使用移动臂或移动台等输送基材对该半导体进行输送(例如参照专利文献1、2)。在进行这样的输送时,对载置半导体的部件(半导体载置部件)要求使得半导体在输送中在该输送基材上不偏移的强的抓持力。
然而,以往的具有强的抓持力的半导体载置部件存在如下问题:在输送后将半导体从该半导体载置部件剥离时,污染物容易附着残留于半导体侧。
另一方面,若将污染物难以附着残留于半导体侧的陶瓷等材料用作半导体载置部件,则存在抓持力变弱,在输送中在该半导体载置部件上半导体偏移的问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2001-351961号公报
专利文献2:日本特开2013-138152号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
本发明要解决的技术问题在于提供一种具有能够表现出强的抓持力并且污染物难以附着残留于半导体侧的半导体载置部件的半导体输送部件。另外,本发明要解决的技术问题在于提供一种能够表现出强的抓持力并且污染物难以附着残留于半导体侧的半导体载置部件。
用于解决技术问题的手段
本发明的半导体输送部件具有输送基材和半导体载置部件,其特征在于:
该半导体载置部件包含纤维状柱状结构体,
该纤维状柱状结构体为具备多个纤维状柱状物的纤维状柱状结构体,
该纤维状柱状物沿相对于该输送基材大致垂直的方向取向,
该纤维状柱状结构体的与该输送基材相反的一侧的表面相对于玻璃表面的静摩擦系数为2.0以上。
在优选实施方式中,在上述输送基材与上述半导体载置部件之间具有粘合剂。
在优选实施方式中,上述纤维状柱状结构体为具备多个碳纳米管的碳纳米管集合体。
在优选实施方式中,上述碳纳米管具有多层,该碳纳米管的层数分布的分布幅度为10层以上,该层数分布的最频值的相对频度为25%以下。
在优选实施方式中,上述碳纳米管的长度为300μm以上。
在优选实施方式中,上述碳纳米管具有多层,该碳纳米管的层数分布的最频值存在于层数10层以下,该最频值的相对频度为30%以上。
在优选实施方式中,上述碳纳米管的长度为500μm以上。
本发明的半导体载置部件用于载置半导体,其特征在于:
包含具备多个纤维状柱状物的纤维状柱状结构体,
该纤维状柱状结构体的表面相对于玻璃表面的静摩擦系数为2.0以上。
在优选实施方式中,上述纤维状柱状结构体为具备多个碳纳米管的碳纳米管集合体。
在优选实施方式中,上述碳纳米管具有多层,该碳纳米管的层数分布的分布幅度为10层以上,该层数分布的最频值的相对频度为25%以下。
在优选实施方式中,上述碳纳米管的长度为300μm以上。
在优选实施方式中,上述碳纳米管具有多层,该碳纳米管的层数分布的最频值存在于层数10层以下,该最频值的相对频度为30%以上。
在优选实施方式中,上述碳纳米管的长度为500μm以上。
发明效果
根据本发明,能够提供一种具有能够表现出强的抓持力并且污染物难以附着残留于半导体侧的半导体载置部件的半导体输送部件。另外,能够提供一种能够表现出强的抓持力并且污染物难以附着残留于半导体侧的半导体载置部件。
附图说明
图1为本发明的优选实施方式中的半导体输送部件的一个例子的概略剖视图。
图2为本发明的优选实施方式中的半导体载置部件的一个例子的概略剖视图。
图3为本发明的优选实施方式中的碳纳米管集合体的制造装置的概略剖视图。
具体实施方式
本发明的半导体输送部件具有输送基材和半导体载置部件。
作为本发明的半导体输送部件所具有的输送基材,可采用半导体输送部件中所用的任意适当的输送基材。作为这样的输送基材,例如可列举:输送臂、输送台、输送环、输送导轨、收纳盒、钩、输送框架等。这样的输送基材的大小和形状可根据目的而适当选择。
本发明的半导体输送部件所具有的半导体载置部件为载置半导体的部件。本发明的半导体输送部件所具有的半导体载置部件包含纤维状柱状结构体。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造