[发明专利]层叠体膜、电极基板膜和它们的制造方法在审

专利信息
申请号: 201580045991.8 申请日: 2015-08-25
公开(公告)号: CN106796464A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 大上秀晴 申请(专利权)人: 住友金属矿山株式会社
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041;B32B7/02;G06F3/044;H01B5/14;H01B13/00
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 李英艳,张永康
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 层叠 电极 基板膜 它们 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种层叠体膜,其通过由树脂膜构成的透明基板和设置于该透明基板的层叠膜构成,其特征在于,

上述层叠膜具有从透明基板侧开始计数的第一层的膜厚为20nm以上且30nm以下的金属吸收层和第二层的金属层,

并且,在可见光波长区域的上述金属吸收层的光学常数为:

在波长400nm的折射率为2.0~2.2,消光系数为1.8~2.1;

在波长500nm的折射率为2.4~2.7,消光系数为1.9~2.3;

在波长600nm的折射率为2.8~3.2,消光系数为1.9~2.5;

在波长700nm的折射率为3.2~3.6,消光系数为1.7~2.5;

在波长780nm的折射率为3.5~3.8,消光系数为1.5~2.4,

并且,由透明基板与金属吸收层以及金属吸收层与金属层的各界面的反射导致的在可见光波长区域的平均反射率为20%以下,并且在可见光波长区域的最高反射率与最低反射率的差为10%以下,

所述可见光波长区域为400~780nm,

并且,所述金属吸收层是通过将Ni单体、Ni系合金、Cu单体、或Cu系合金作为成膜材料并且向成膜装置内导入仅由氧构成的反应性气体的真空成膜法形成,该Ni系合金是添加了从Ti、V、W、Ta、Si、Cr、Ag、Mo、Cu中选出的一种以上的元素的Ni系合金,该Cu系合金是添加了从Ti、V、W、Ta、Si、Cr、Ag、Mo、Ni中选出的一种以上的元素的Cu系合金。

2.如权利要求1所述的层叠体膜,其特征在于,

上述层叠膜具有从透明基板侧开始计数的第三层的膜厚为20nm以上且30nm以下的第二金属吸收层,

并且,在可见光波长区域的上述第二金属吸收层的光学常数为:

在波长400nm的折射率为2.0~2.2,消光系数为1.8~2.1;

在波长500nm的折射率为2.4~2.7,消光系数为1.9~2.3;

在波长600nm的折射率为2.8~3.2,消光系数为1.9~2.5;

在波长700nm的折射率为3.2~3.6,消光系数为1.7~2.5;

在波长780nm的折射率为3.5~3.8,消光系数为1.5~2.4,

所述可见光波长区域为400~780nm,

并且,所述第二金属吸收层是通过将Ni单体、Ni系合金、Cu单体、或Cu系合金作为成膜材料并且向成膜装置内导入仅由氧构成的反应性气体的真空成膜法形成,该Ni系合金是添加了从Ti、V、W、Ta、Si、Cr、Ag、Mo、Cu中选出的一种以上的元素的Ni系合金,该Cu系合金是添加了从Ti、V、W、Ta、Si、Cr、Ag、Mo、Ni中选出的一种以上的元素的Cu系合金。

3.如权利要求1所述的层叠体膜,其特征在于,

上述金属层的膜厚为50nm以上且5000nm以下。

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