[发明专利]防护膜组件、防护膜组件的制造方法及使用了防护膜组件的曝光方法有效
申请号: | 201580046926.7 | 申请日: | 2015-09-18 |
公开(公告)号: | CN106796391B | 公开(公告)日: | 2020-02-11 |
发明(设计)人: | 高村一夫;种市大树;河关孝志;小野阳介;石川比佐子;美谷岛恒明;大久保敦;佐藤泰之;广田俊明 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;H01L21/027 |
代理公司: | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 金鲜英;涂琪顺 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 防护 组件 制造 方法 使用 曝光 | ||
1.一种远紫外光光刻用的防护膜组件,其特征在于,具备:
配置有膜厚为10nm以上100nm以下的防护膜的第1框体;
支持所述第1框体的第2框体;
贯通所述第1框体的贯通孔;以及
在所述第1框体的配置有所述防护膜的面侧覆盖所述贯通孔的过滤器,
所述过滤器的通气部的合计面积相对于所述防护膜组件的内部体积的比率为0.007mm-1以上0.026mm-1以下,并且,
所述贯通孔贯通所述防护膜,所述过滤器配置在所述防护膜上,或者,
所述过滤器与所述防护膜相邻地配置在所述第1框体上,或者,
所述第1框体在与所述第2框体对置的面具有与所述贯通孔连接的槽部,所述槽部通过与所述第2框体的结合而形成与所述贯通孔连接的孔,所述孔在所述第1框体的内侧的面具有开口,或者,
所述第2框体具有在与所述第1框体对置的面配置的第1开口、和在所述第2框体的内侧的面配置的第2开口,2个所述开口通过在所述第2框体的内部配置的孔被连接,所述第1开口与所述贯通孔连接,或者,
所述第2框体在与所述第1框体对置的面具有与所述贯通孔连接的槽部,所述槽部通过与所述第1框体的结合而形成与所述贯通孔连接的孔,所述孔在所述第2框体的内侧的面具有开口。
2.根据权利要求1所述的防护膜组件,其特征在于,以所述过滤器的上表面与所述防护膜成为同一面的方式,在所述第1框体上配置所述过滤器。
3.根据权利要求1所述的防护膜组件,其特征在于,所述防护膜对13.5nm的波长的光具有90.0%以上的透射率,膜厚为20nm以上50nm以下。
4.根据权利要求1所述的防护膜组件,其特征在于,高度为2mm以下。
5.一种远紫外光光刻用的防护膜组件的制造方法,其特征在于,在基板上形成膜厚为10nm以上100nm以下的防护膜,
除去规定位置的所述防护膜以使所述基板露出,
除去所述基板的一部分,使所述防护膜露出而形成第1框体,在所述规定位置形成贯通所述第1框体的贯通孔,
在所述第1框体的配置有所述防护膜的面侧,配置覆盖所述贯通孔的过滤器,
以所述第1框体侧的所述贯通孔开口的方式,经由粘接层将所述第1框体固定于第2框体,
所述过滤器的通气部的合计面积相对于所述防护膜组件的内部体积的比率为0.007mm-1以上0.026mm-1以下,并且,
所述贯通孔在所述规定位置贯通所述防护膜而形成,在所述防护膜上,配置覆盖所述贯通孔的过滤器,或者,
与所述防护膜相邻地在所述第1框体上配置所述过滤器,或者,
在所述第1框体的与所述第2框体对置的面,形成与所述贯通孔连接的槽部,经由粘接层将所述第1框体固定于第2框体,形成与所述贯通孔连接并且在所述第1框体的内侧的面具有开口的孔,或者,
在所述第2框体的与所述第1框体对置的面形成第1开口,在所述第2框体的内侧的面形成第2开口,在所述第2框体的内部形成连接2个所述开口的孔,将所述第1开口与所述贯通孔连接,或者,
在所述第2框体的与所述第1框体对置的面,形成与所述贯通孔连接的槽部,经由粘接层将所述第1框体固定于第2框体,形成与所述贯通孔连接并且在所述第2框体的内侧的面具有开口的孔。
6.根据权利要求5所述的防护膜组件的制造方法,其特征在于,以所述过滤器的上表面与所述防护膜成为同一面的方式,在所述第1框体上配置所述过滤器。
7.根据权利要求5所述的防护膜组件的制造方法,其特征在于,将膜厚为20nm以上50nm以下的所述防护膜形成在所述基板上,
所述防护膜对13.5nm的波长的光具有90.0%以上的透射率。
8.根据权利要求5所述的防护膜组件的制造方法,其特征在于,使高度为2mm以下。
9.一种曝光方法,其特征在于,将权利要求1所述的防护膜组件配置于光掩模的中间掩模面,
将所述光掩模配置在曝光装置的规定位置,在与所述中间掩模面具有3mm以下距离的空隙收纳所述防护膜组件,
在真空下,对配置有所述防护膜组件的所述光掩模照射13.5nm的光,
将从配置有所述防护膜组件的所述光掩模的所述中间掩模面射出的光照射到形成有抗蚀剂层的基材。
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