[发明专利]极紫外(EUV)辐射源在审
申请号: | 201580047065.4 | 申请日: | 2015-09-01 |
公开(公告)号: | CN106605450A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | V·V·德什潘德;S·V·德什潘德;D·克利斯;O·格鲁申克夫;S·克里什南 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H05G2/00 | 分类号: | H05G2/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 酆迅;董典红 |
地址: | 美国纽*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 紫外 euv 辐射源 | ||
1.一种用于产生极紫外(EUV)辐射的装置,所述装置包括:
极紫外(EUV)辐射源粒料产生器,被配置为产生EUV辐射粒料,所述EUV辐射粒料包含:
至少一个金属颗粒;
重惰性气体团簇,被嵌入有所述至少一个金属颗粒;以及
惰性气体壳团簇,被嵌入有所述重惰性气体团簇并且包含选自He、Ne和Ar的轻惰性气体的团簇;以及
至少一个照射源,其中所述至少一个照射源中的每个照射源被配置成朝着所述EUV辐射粒料的路径来照射激光束。
2.根据权利要求1所述的装置,其中所述至少一个照射源包括:
第一激光源,被配置成在所述EUV辐射粒料的所述路径中的第一点处照射第一激光束;以及
第二激光源,被配置成在所述EUV辐射粒料的所述路径中的第二点处照射第二激光束,与所述第一点距离产生所述EUV照射粒料的位置相比,所述第二点更远离于所述位置。
3.根据权利要求2所述的装置,其中所述第二激光束的强度比所述第一激光束的强度大至少两倍。
4.根据权利要求2所述的装置,其中所述第二激光束具有比所述第一激光束长的波长。
5.根据权利要求2所述的装置,其中所述第二激光束是来自CO
6.根据权利要求1所述的装置,其中所述EUV辐射源粒料产生器包括:
液滴产生器单元,被配置为沿着液滴传输路径来发射所述轻惰性气体He、Ne和Ar的团簇;
金属颗粒产生器,被配置成沿着金属颗粒束方向来发射所述至少一个金属颗粒,所述金属颗粒束方向在第一相交区域处与所述液滴传输路径相交;以及
重惰性气体团簇束产生器,被配置成沿着重惰性气体团簇束方向来发射所述重惰性气体的团簇,所述重惰性气体团簇束方向在第二相交区域处与所述液滴传输路径相交。
7.根据权利要求6所述的装置,其中与所述第二相交区域至发射所述轻惰性气体的团簇的位置相比,所述第一相交区域更靠近于所述位置。
8.根据权利要求6所述的装置,其中与所述第一相交区域距离发射所述轻惰性气体的团簇的位置相比,所述第二相交区域更靠近于所述位置。
9.根据权利要求1所述的装置,其中所述EUV辐射源粒料的所述路径是基本竖直向下的路径。
10.根据权利要求1所述的装置,其中,在所述EUV辐射源粒料的每个中,所述轻惰性气体的原子总数比在所述重惰性气体团簇中的重惰性气体原子的总数大至少两倍。
11.一种极紫外(EUV)辐射源粒料,包括:
至少一个金属颗粒;
重惰性气体团簇,被嵌入有所述至少一个金属颗粒;以及
惰性气体壳团簇,被嵌入有所述重惰性气体团簇并且包含选自He、Ne和Ar的轻惰性气体的团簇。
12.根据权利要求11所述的EUV辐射源粒料,其中所述轻惰性气体的原子总数比在所述重惰性气体团簇中的重惰性气体原子的总数大至少两倍。
13.根据权利要求11所述的EUV辐射源粒料,在所述重惰性气体团簇中的重惰性气体原子的总数比在所述至少一个金属颗粒中的所述原子的总数大至少十倍。
14.根据权利要求11所述的EUV辐射源粒料,其中所述至少一个金属颗粒是多个金属颗粒。
15.根据权利要求14所述的EUV辐射源粒料,其中所述多个金属颗粒分散在所述重惰性气体团簇内。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国际商业机器公司,未经国际商业机器公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580047065.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:LED驱动电路
- 下一篇:用于处理半导体处理设备排放物的控制器