[发明专利]极紫外(EUV)辐射源在审
申请号: | 201580047065.4 | 申请日: | 2015-09-01 |
公开(公告)号: | CN106605450A | 公开(公告)日: | 2017-04-26 |
发明(设计)人: | V·V·德什潘德;S·V·德什潘德;D·克利斯;O·格鲁申克夫;S·克里什南 | 申请(专利权)人: | 国际商业机器公司 |
主分类号: | H05G2/00 | 分类号: | H05G2/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 酆迅;董典红 |
地址: | 美国纽*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 紫外 euv 辐射源 | ||
极紫外(EUV)辐射源粒料(8)包括至少一个金属颗粒(30),该至少一个金属颗粒嵌入在重惰性气体团簇(20)内,该重惰性气体团簇包含在惰性气体壳团簇(10)内。EUV辐射源组件可以通过至少一个第一激光脉冲和至少一个第二激光脉冲的顺序照射得以激活。每个第一激光脉冲通过从至少一个金属颗粒(30)分离外轨道电子并将电子释放到重惰性气体团簇(20)中而产生等离子体。每个第二激光脉冲放大嵌入在重惰性气体团簇(20)中的等离子体,触发激光驱动的自放大过程。经放大的等离子体引发重惰性气体和其他构成原子中的轨道间电子跃迁,导致EUV辐射的发射。激光脉冲单元可以与源粒料产生单元组合以形成集成的EUV源系统。
技术领域
本发明实施例涉及一种极紫外(EUV)辐射源和一种用于产生 EUV辐射的装置。
背景技术
极紫外(EUV)技术是指使用极紫外(EUV)波长的光刻技术。目前EUV技术致力于产生具有大约13.5nm波长的窄带电磁辐射。可替选地,EUV辐射可以被称作软x射线,因为其落入在x射线和紫外频带之间。轨道间原子和分子发射是产生这种电磁辐射的潜在来源。
理论上,源目标可以是固体、液体液滴或气体。已知的EUV源类型包括放电产生等离子体(DPP)系统、激光产生等离子体 (LPP)系统和同步辐射源系统。在这些系统中,已知LPP系统用来提供高强度EUV辐射,且目前是有广泛的研究工作的主题。
发明内容
一种极紫外(EUV)辐射源粒料(pellet)包括嵌入在重惰性气体团簇内的至少一个金属颗粒,所述重惰性气体团簇包含在惰性气体壳团簇内。EUV辐射源组件可以通过至少一个第一激光脉冲和至少一个第二激光脉冲的顺序照射来激活。每个第一激光脉冲通过从至少一个金属颗粒分离外轨道电子并释放电子进入重惰性气体团簇来产生等离子体。每个第二激光脉冲放大嵌入在重惰性气体团簇中的等离子体,触发激光驱动的自放大过程,其中越多的等离子体能量引发越多的自由电子且反之亦然。经放大的等离子体引发重惰性气体和其它构成原子中的轨道间电子跃迁,导致EUV辐射的发射。激光脉冲单元可以与源粒料产生单元组合以形成集成的EUV源系统。
根据本公开的一个方面,提供一种用于产生极紫外(EUV)辐射的装置。所述装置包括:极紫外(EUV)辐射源粒料产生器,被配置为产生EUV辐射粒料。每个EUV辐射粒料包含:至少一个金属颗粒,其是金属元素的原子或金属元素的多个原子的聚集体;重惰性气体团簇,被嵌入有该至少一个金属颗粒;以及惰性气体壳团簇,被嵌入有该重惰性气体团簇。惰性气体团簇是选自He、Ne和 Ar的轻惰性气体原子的固相或液相聚集体。所述装置进一步包括至少一个照射源。每个照射源被配置成朝着EUV照射粒料的路径照射激光束。
根据本公开的另一方面,提供一种极紫外(EUV)辐射源粒料,该EUV辐射源粒料包括:至少一个金属颗粒;重惰性气体团簇,被嵌入有该至少一个金属颗粒;以及惰性气体壳团簇,被嵌入有该重惰性气体团簇且包含选自He、Ne和Ar的轻惰性气体的团簇。
本发明的方面涉及通过双激光脉冲来激活的极紫外(EUV)辐射源以及用于通过产生和激活EUV辐射来产生EUV辐射的装置。
附图说明
现在将参考附图仅通过示例的方式来描述本发明的实施例,其中:
图1A是根据本公开实施例的第一示例性极紫外(EUV)源粒料的示意性图示。
图1B是根据本公开实施例的第二示例性EUV辐射源粒料的示意性图示。
图1C是根据本公开实施例的第三示例性EUV辐射源粒料的示意性图示。
图2是根据本公开第一实施例的用于产生EUV辐射的第一示例性装置的示意性视图。
图3A是根据本公开实施例的在通过第一激光束照射后的示例性 EUV辐射源粒料的示意性视图。
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