[发明专利]纳米薄雾产生装置的旋转体构造

权利要求书

1.一种纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其使上部比下部直径大的呈研钵状的旋转体旋转来产生纳米薄雾，其特征在于，

所述旋转体中，所述下部浸泡在蓄水槽的水中，在所述上部设置有薄雾飞散口，

所述纳米薄雾产生装置通过使所述旋转体旋转沿该旋转体的内壁汲取所述水并使所述水从所述薄雾飞散口飞散来产生纳米薄雾，

将所述薄雾飞散口的上端高度处的内壁半径设为上部半径R1，

将从被所述蓄水槽的水浸泡的吃水线的高度到所述薄雾飞散口的上端高度为止的高度设为汲取高度H，

将在该汲取高度H的范围内，所述内壁与水平线所成的平均角度设为侧面平均角度θ1，

相对于满足-R1sin³θ+2Hcosθsin²θ+Hcos³θ＝0即基本构造方程式的θ，

将所述侧面平均角度θ1设定为在θ±5％以内。

2.如权利要求1所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，

在将所述吃水线与所述内壁的交点设为下部内壁点，将所述上端高度处的内壁点设为上部内壁点时，

将所述侧面平均角度θ1设为将所述下部内壁点和所述上部内壁点连结的直线与水平线所成的角度。

3.如权利要求1所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，

所述内壁由在正面剖面观察时呈直线状地延伸的锥形形状构成。

4.如权利要求1所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，

所述内壁在正面剖面观察时呈向外侧膨胀的曲面形状。

5.如权利要求1所述的纳米薄雾产生装置的旋转体构造，其特征在于，

在将所述吃水线的高度控制为在预先设定的下限值与上限值之间变动的情况下，将所述下限值以上且所述上限值以下的数值作为所述吃水线的高度。