[发明专利]磁盘用基板的制造方法和磁盘用基板

权利要求书

1.一种磁盘用基板的制造方法，其特征在于，该磁盘用基板的制造方法包括下述研磨处理，即，用一对研磨垫夹持基板，向所述研磨垫与所述基板之间供给包含电介质材料的研磨磨粒的浆料，使所述研磨垫与所述基板相对滑动，由此对所述基板的两主表面进行研磨，

在所述研磨处理前，进行除去处理，即，所述浆料在由电极形状而产生的电场强度的分布不均匀的交流电场中通过，利用介电电泳将所述浆料中存在的异物与研磨磨粒分离，除去异物。

2.如权利要求1所述的磁盘用基板的制造方法，其中，所述研磨磨粒为二氧化硅磨粒，

所述二氧化硅磨粒使用水玻璃和离子交换树脂获得。

3.如权利要求2所述的磁盘用基板的制造方法，其中，在所述研磨处理前，在所述浆料中添加使所述二氧化硅磨粒的表面电位的绝对值减少的添加剂，所述添加剂的添加在所述除去处理后进行。

4.如权利要求1～3中任一项所述的磁盘用基板的制造方法，其中，对所述除去处理后的研磨磨粒实施破碎处理。

5.如权利要求1～4中任一项所述的磁盘用基板的制造方法，其中，所述除去处理前的所述浆料中的所述研磨磨粒的含量比所述研磨处理后的所述浆料中的所述研磨磨粒的含量高。

6.如权利要求1～5中任一项所述的磁盘用基板的制造方法，其中，在所述研磨处理后，进行对基板的主表面进行清洗的清洗处理，在所述清洗处理中，使用pH小于10的包含无机碱的碱清洗液。

7.如权利要求1～6中任一项所述的磁盘用基板的制造方法，其中，在所述研磨处理后，进行对基板的主表面进行清洗的清洗处理，

所述清洗处理为使所述基板浸渍到清洗液中或与清洗液接触的非擦洗清洗。

8.如权利要求1～7中任一项所述的磁盘用基板的制造方法，其中，在所述除去处理中，利用介电电泳将由胶态二氧化硅构成的研磨磨粒与由层状硅酸盐构成的板状异物分离，除去浆料中的板状异物。

9.一种磁盘用基板的制造方法，其特征在于，该磁盘用基板的制造方法包括下述研磨处理，即，用一对研磨垫夹持基板，向所述研磨垫与所述基板之间供给包含由胶态二氧化硅构成的研磨磨粒的浆料，使所述研磨垫与所述基板相对滑动，由此对所述基板的两主表面进行研磨，

所述研磨处理中所用的浆料如下获得：使浆料原液在电极间通过，该电极具有通过施加交流电压而能产生电场强度的分布不均匀的电场的形状，从而对所述浆料原液中包含的由层状硅酸盐构成的板状异物产生正的介电电泳或负的介电电泳，抑制所述板状异物通过所述电极间，将所述板状异物从所述浆料原液中除去，由此得到所述浆料。

10.一种磁盘用基板，其为具备具有圆孔的一对主表面、形成圆孔的内周端面和外周端面的磁盘用基板，其特征在于，

所述主表面中，最大径为100nm以上的由层状硅酸盐构成的板状异物的附着数小于2个/片。