[发明专利]过程窗口识别符有效
申请号: | 201580051126.4 | 申请日: | 2015-08-26 |
公开(公告)号: | CN107077077B | 公开(公告)日: | 2019-03-12 |
发明(设计)人: | 陈钢;约瑟夫·W·德沃克特;杜月林;李万宇;卢彦文 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 过程 窗口 识别 | ||
1.一种计算机执行的方法,用于为器件制造过程确定设计布局的部分上的感兴趣的区域的重叠过程窗口(OPW),所述器件制造过程用于在衬底上成像所述部分,所述方法包括:
获得所述感兴趣的区域中的多个特征;
获得所述器件制造过程的一个或多个处理参数的多个值;
确定所述器件制造过程在所述多个值中的每一个值的条件下成像所述多个特征时缺陷的存在、缺陷存在的可能性或二者;以及
根据所述缺陷的存在、缺陷存在的可能性或二者,确定所述感兴趣的区域的所述重叠过程窗口。
2.根据权利要求1的方法,其中,基于表示所述设计布局的数据来选择所述多个特征。
3.根据权利要求1的方法,其中,根据所述多个特征的各个过程窗口(IPW)的一个或多个特性确定缺陷的存在、缺陷存在的可能性或者两者,而不实际确定整个的各个过程窗口。
4.根据权利要求3的方法,还包括将所述一个或多个特性汇编到图中。
5.根据权利要求1的方法,其中,使用经验规律确定缺陷的存在、缺陷存在的可能性或者两者。
6.根据权利要求1的方法,其中,使用计算或模拟所述多个特征的图像的一部分或特性的计算机模型确定缺陷的存在、缺陷存在的可能性或者两者,并且根据所述部分或所述特性确定缺陷的存在、缺陷存在的可能性或者两者。
7.根据权利要求1的方法,其中,使用从晶片检查工具获得的实验数据确定缺陷的存在、缺陷存在的可能性或者两者。
8.根据权利要求1的方法,其中,从以下各项构成的群组中选择所述缺陷:颈缩、线回退、线细化、临界尺寸误差、重叠、抗蚀剂顶部损失、抗蚀剂底切和桥接,和/或其中所述一个或多个处理参数从以下各项构成的群组中选择:焦距、剂量、照射源的特性、投影光学元件的特性、抗蚀剂的特性、通过量测获得的数据、来自用在器件制造过程中的处理设备的操作员的数据、抗蚀剂的显影和曝光后烘干的特性、以及蚀刻的特性。
9.根据权利要求1的方法,还包括确定所述多个特征的各个过程窗口。
10.根据权利要求9的方法,其中,重叠过程窗口的确定包括重叠各个过程窗口。
11.根据权利要求1的方法,还包括选择重叠过程窗口中的点以及在通过该点所代表的处理参数的值的条件下进行所述器件制造过程。
12.根据权利要求1的方法,其中,所述多个特征包括一个或多个处理窗口限制图案(PWLP)。
13.根据权利要求1的方法,其中,所述感兴趣的区域包括一个或多个处理窗口限制图案。
14.根据权利要求1的方法,还包括根据所述重叠过程窗口确定所述设计布局的所述部分的全局过程窗口。
15.一种计算机程序产品,包括具有记录在其上的指令的计算机可读介质,当被计算机执行时所述指令执行权利要求1至14中任一项所述的方法。
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