[发明专利]用于分集化及缺陷发现的动态分格

说明书

本发明提供用于产生晶片的缺陷样本的方法及系统。一种方法包含将在晶片上检测的缺陷分离到若干分格中，所述分格在所述缺陷的一或多个第一属性的第一集合的值上具有分集。所述方法还包含基于所述缺陷的一或多个第二属性的第二集合中的分集而从所述分格中的一或多者独立地选择所述分格内的缺陷。接着，使用所述选定缺陷来创建所述晶片的缺陷样本。以此方式，可容易地选择具有多个属性的分集化值的缺陷。

技术领域

本发明一般来说涉及用于产生晶片的缺陷样本的方法及系统。

背景技术

以下描述及实例并非由于其包含于此章节中而被认为是现有技术。

在晶片检验处方的设置期间的最重要任务中的一者是识别可在晶片上检测的尽可能多的缺陷类型。由于自动化处方设置及调谐变得较重要，因此对针对此优化而自动识别缺陷的良好集合的需要也变得越来越重要。在不具有良好训练集合的情况下，自动化优化无法很好地起作用。另外，在制造斜升期间，当高的且未知的缺陷率是问题时，识别晶片上的所有缺陷同样重要。在此情况下，主要将关注放在危险的缺陷上。

随着光学检验中的挑战增加，对开发实现最大缺陷类型分集的有效取样算法的需要已增大。由于所关注缺陷(DOI)的大小缩减，因此光学检验尽力维持对这些缺陷的差分灵敏度。为实现所要灵敏度，检验往往较少依赖于复杂的缺陷检测算法且较多依赖于利用缺陷性质(或属性)的资源的复杂滋扰(nuisance)滤波器。然而，调谐此类滤波器需要代表所有缺陷类型的缺陷群体。

当前用以从群体对缺陷取样的一些方法的实例描述于以下各项中：发布于2001年7月24日的颁予西蒙斯(Simmons)的美国专利第6,265,232号、发布于2003年9月2日的颁予西蒙斯的美国专利第6,613,590号，发布于2004年9月14日的颁予细谷(Hosoya)等人的美国专利第6,792,367号、发布于2005年5月10日的颁予西蒙斯的美国专利第6,890,775号及发布于2011年3月22日的颁予涩谷(Shibuya)等人的美国专利第7,912,276号，以及公开于2005年7月21日的颁予西蒙斯的美国专利申请公开案第2005/0158887号及公开于2008年11月27日的颁予内马蒂(Nehmadi)等人的美国专利申请公开案第2008/0295048号，所有所述专利如同全面陈述于本文中一般以引用的方式并入。

因此，开发用于产生可用于上文所描述的一或多个应用的晶片的缺陷样本的系统及/或方法将为有利的。

发明内容

各种实施例的以下描述不应以任何方式解释为限制所附权利要求书的标的物。

一个实施例涉及一种用于产生缺陷样本的计算机实施的方法。所述方法包含获取所述晶片的检验结果。所述检验结果包含通过检验过程而在所述晶片上检测的缺陷的信息。所述信息至少包含所述缺陷的一或多个第一属性的第一集合及所述缺陷的一或多个第二属性的第二集合的信息。方法还包含识别一或多个第一属性的在所述一或多个第一属性的值中具有最大分集的值。另外，所述方法包含基于所述所识别值而产生用于所述缺陷的分格的集合，使得所述分格中的每一者对应于所述值的仅一部分且使得对应于所述分格的所述值在所述一或多个第一属性上具有分集。所述方法进一步包含基于对应于所述缺陷的所述一或多个第一属性的所述值而将所述缺陷分离到所述分格中。方法还包含基于一或多个第二属性的值的分集而从分格中的一者选择所述分格中的一者内的缺陷及针对所述分格中的至少另一者重复所述选择步骤。另外，所述方法包含针对所述晶片创建包含选自所述分格中的所述一者及所述分格中的所述至少另一者的所述缺陷的缺陷样本。由计算机系统执行所述获取、识别、产生、分离、选择、重复及创建步骤。

可如本文中进一步所描述来执行上文所描述的方法。另外，上文所描述的方法可包含本文中所描述的任何其它方法的任何其它步骤。此外，上文所描述的所述方法可通过本文中所描述的所述系统中的任一者来执行。