[发明专利]多孔二氧化硅系颗粒和清洁用化妆品

权利要求书

1.一种多孔二氧化硅系颗粒，其特征在于，

(i)平均圆度处于0.1～0.5的范围，

(ii)微孔容积(Pv)处于1.0～2.0ml/g的范围，

(iii)众数直径(D_m)处于50～600μm的范围，

(iv)最大粒径(D₁₀₀)与众数直径(D_m)之比(D₁₀₀/D_m)为3.0以下。

2.根据权利要求1所述的多孔二氧化硅系颗粒，其特征在于，所述多孔二氧化硅系颗粒的用1.0～1.4KPa涂擦30秒钟后的中位径(D_R50)处于0.5～25μm的范围，最大粒径(D_R100)处于1～100μm的范围。

3.根据权利要求1或2所述的多孔二氧化硅系颗粒，其特征在于，所述多孔二氧化硅系颗粒的最大微孔径(PD₁₀₀)与最小微孔径(PD₀)之比(PD₁₀₀/PD₀)为5～10。

4.根据权利要求1或2所述的多孔二氧化硅系颗粒，其特征在于，当对所述多孔二氧化硅系颗粒施加0.5gf的压缩力f1时，产生0.5～3μm的位移。

5.根据权利要求4所述的多孔二氧化硅系颗粒，其特征在于，当对所述多孔二氧化硅系颗粒施加以0.21gf/sec的比例增加到2.5gf的压缩力时，产生5次以上的0.01～1.0μm的台阶状的位移。

6.根据权利要求4所述的多孔二氧化硅系颗粒，其特征在于，当把对所述多孔二氧化硅系颗粒施加2.5gf的压缩力f2时的位移量设为d2(μm)时，压缩位移的斜率(f2/d2)处于0.3～2.0的范围。

7.根据权利要求5所述的多孔二氧化硅系颗粒，其特征在于，当对所述多孔二氧化硅系颗粒施加以0.21gf/sec的比例增加的压缩力时，产生多次台阶状的位移，并且最初产生10μm以上的位移量的压缩力f3处于5～40gf的范围。

8.根据权利要求7所述的多孔二氧化硅系颗粒，其特征在于，当将在所述压缩力f3(gf)下发生10μm以上的压缩位移之前的位移量设为d3(μm)时，压缩位移的斜率(f3/d3)处于0.3～1.25的范围。

9.一种多孔二氧化硅系颗粒，其特征在于，

(i)平均圆度为0.1～0.5，

(ii)微孔容积为1～2ml/g，

(iii)中位径(D₅₀)为50～500μm，

(iv)最大粒径(D₁₀₀)与中位径(D₅₀)之比(D₁₀₀/D₅₀)为3.0以下，

(v)用250～350g的负荷涂擦后的中位径(D_R50)为0.5～25μm。

10.一种清洁用化妆品，其特征在于，所述清洁用化妆品包含权利要求1～9中任意一项所述的多孔二氧化硅系颗粒以及清洁用化妆品成分。