[发明专利]多孔二氧化硅系颗粒和清洁用化妆品

说明书

技术领域

本发明涉及多孔二氧化硅系颗粒及包含该多孔二氧化硅系颗粒的清洁用化妆品，更具体地说，涉及磨损性的多孔二氧化硅系颗粒。

背景技术

清洁用化妆品中包含利用物理性作用剥掉老的角质层的磨砂剂。作为磨砂剂，已为公众所知的有微小的塑料颗粒(例如聚乙烯颗粒)(参照专利文献1)。塑料颗粒容易吸收杀虫剂等化学物质，此外，因为重量轻而难以在下水处理厂除去。因此，塑料颗粒存在下述问题：流入江河、海洋、池沼等，在鱼类和贝类中蓄积，并通过它们影响人体。

近年，作为磨砂剂也使用硅胶(シリカゲル)颗粒。硅胶颗粒可以通过专利文献2、3所公开的制造方法得到。专利文献4中公开了：由特定的硅胶颗粒构成的磨砂剂，“使用时的磨砂感”良好，并且由于涂擦时颗粒崩溃，所以磨砂剂对对象物的刺激低。该磨砂剂不存在塑料颗粒的上述问题。此外，专利文献4中还公开了作为硅胶颗粒，尽管也可以使用破碎状的颗粒，但是如果是球状，则硅胶颗粒(磨砂剂)接触皮肤时，能得到柔软的使用感觉，根据该点优选球状的硅胶颗粒，并且公开了使用后的刺痛感小。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利公开公报特开2001-278778号

专利文献2：日本专利公开公报特开昭62-275014号

专利文献3：日本专利公开公报特开平10-324517号

专利文献4：日本专利公开公报特开2011-225548号

发明内容

本发明要解决的技术问题

可是，对于使用后的刺痛感小的磨砂剂，存在下述问题：使用中为了得到所希望的磨砂感而用强的按压压力涂擦磨砂剂，在微观上，角质层产生清洗痕等微小损伤，由此可能导致角质层的屏蔽功能和保水功能降低。

本发明的目的是提供必要的多孔二氧化硅系颗粒，用于实现即使用弱的涂擦力(按压压力)涂擦也能得到足够的磨砂感并且刺痛感得到抑制的清洁用化妆品。

解决技术问题的技术方案

本发明的多孔二氧化硅系颗粒具有以下的特性(i)～(iv)。

(i)平均圆度为0.1～0.5，

(ii)微孔容积(Pv)为1.0～2.0ml/g，

(iii)众数直径(D_m)为50～600μm，

(iv)最大粒径(D₁₀₀)与众数直径(D_m)之比(D₁₀₀/D_m)为3.0以下。

此外，优选的是，所述多孔二氧化硅系颗粒的用1.0～1.4KPa涂擦30秒钟后的中位径(D_R50)处于0.5～25μm的范围，最大粒径(D_R100)处于1～100μm的范围。

此外，优选的是，多孔二氧化硅系颗粒的最大微孔径(PD₁₀₀)与最小微孔径(PD₀)之比(PD₁₀₀/PD₀)处于5～10的范围。此外，当施加0.5gf的压缩力f1时，所述多孔二氧化硅系颗粒产生0.5～3μm的位移。此外，当对多孔二氧化硅系颗粒施加以0.21gf/sec的比例增加到2.5gf的压缩力时，产生5次以上的0.01～1.0μm的台阶状位移。

通过使用上述的多孔二氧化硅系颗粒，能够得到满足使用磨砂剂的触感和清洁感这双方的清洁用化妆品。

发明效果

按照本发明，能够实现即使用弱的涂擦力(按压压力)研磨也能得到足够的磨砂感并且刺痛感得到抑制的清洁用化妆品。因此，能够抑制皮肤的损伤、以及有可能导致角质层的屏蔽功能和保水功能降低的对角质层造成的线状痕迹等微小损伤。

附图说明

图1是用扫描型电子显微镜拍摄在实施例1中得到的多孔二氧化硅系颗粒的SEM照片(倍率100倍)。

图2是用扫描型电子显微镜拍摄涂擦在实施例1中得到的多孔二氧化硅系颗粒后的SEM照片(倍率100倍)。

图3是表示实施例1的多孔二氧化硅系颗粒的、压缩力和位移的关系的图。

图4是表示实施例1的多孔二氧化硅系颗粒的、压缩力和位移的关系的图。

图5是表示实施例1的多孔二氧化硅系颗粒的、压缩力和位移的关系的图。

具体实施方式