[发明专利]电致发光装置及制造方法有效

专利信息
申请号: 201580056004.4 申请日: 2015-10-08
公开(公告)号: CN107079544B 公开(公告)日: 2018-10-09
发明(设计)人: 园田通;平瀬刚;冈本哲也;妹尾亨;藤原圣士;西川大地;石田守 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H05B33/04;H05B33/10
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;杨艺
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电致发光 装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种电致发光装置,其具有基板和设置在所述基板上的电致发光元件,该电致发光装置的特征在于:

具有密封所述电致发光元件的密封膜,

所述密封膜由有机层和无机层的层叠结构构成,并且,

所述密封膜中,所述有机层的至少周缘部的含碳率比该有机层的中央部的含碳率低,

所述有机层中,在所述周缘部,具有比所述中央部的含碳率低的含碳率的第一低含碳区域从所述有机层的端面起以规定的宽度尺寸构成为框状,并且,

所述有机层中,在所述中央部与所述第一低含碳区域之间,具有比所述中央部的含碳率低的含碳率的第二低含碳区域以规定的宽度尺寸构成为框状。

2.如权利要求1所述的电致发光装置,其特征在于:

所述密封膜中,所述有机层的端面露出到外部。

3.如权利要求1或2所述的电致发光装置,其特征在于:

所述有机层中,在所述周缘部,具有比所述中央部的含碳率低的含碳率的低含碳区域从所述有机层的端面起以规定的宽度尺寸构成为框状。

4.如权利要求1所述的电致发光装置,其特征在于:

所述有机层中,所述第二低含碳区域的宽度尺寸小于所述第一低含碳区域的宽度尺寸。

5.如权利要求1或2所述的电致发光装置,其特征在于:

以傅里叶分光型红外分光光度计(FT-IR)的C-H键量比计,所述有机层的所述至少周缘部的含碳率为所述有机层的所述中央部的含碳率的85%以下。

6.一种电致发光装置,其具有基板和设置在所述基板上的电致发光元件,该电致发光装置的特征在于:

具有密封所述电致发光元件的密封膜,

所述密封膜由有机层和无机层的层叠结构构成,并且,

所述密封膜中,所述有机层的至少周缘部的含碳率比该有机层的中央部的含碳率低,

所述密封膜中,通过对至少周缘部照射激光,降低了所述有机层的所述至少周缘部的含碳率,

所述激光是红外激光。

7.一种电致发光装置,其具有基板和设置在所述基板上的电致发光元件,该电致发光装置的特征在于:

具有密封所述电致发光元件的密封膜,

所述密封膜由有机层和无机层的层叠结构构成,并且,

所述密封膜中,所述有机层的至少周缘部的含碳率比该有机层的中央部的含碳率低,

所述密封膜中,通过对至少周缘部照射激光,降低了所述有机层的所述至少周缘部的含碳率,

在所述密封膜的所述至少周缘部的至少一部分设置有光热转换层。

8.如权利要求1或2所述的电致发光装置,其特征在于,包括:

与所述基板相对的对置基板;和

框状的密封件,其设置于所述基板与所述对置基板之间,并且与该基板和对置基板一起封入所述电致发光元件。

9.一种电致发光装置的制造方法,该电致发光装置具有基板和设置在所述基板上的电致发光元件,该制造方法的特征在于,包括:

密封膜形成工序,使用CVD法或溅射法,设置有机层和无机层中的各个层,并且由该有机层和无机层的层叠结构形成密封所述电致发光元件的密封膜;和

激光照射工序,通过对所述密封膜的至少周缘部照射激光,使所述有机层的至少周缘部的含碳率比该有机层的中央部的含碳率低。

10.如权利要求9所述的电致发光装置的制造方法,其特征在于:

在所述激光照射工序之前,进行在所述密封膜的所述至少周缘部的至少一部分形成光热转换层的光热转换层形成工序。

11.如权利要求9或10所述的电致发光装置的制造方法,其特征在于:

在所述密封膜形成工序中,使用相同大小的掩模,形成所述密封膜包含的所述有机层和所述无机层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于夏普株式会社,未经夏普株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580056004.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top