[发明专利]一种沉积设备

权利要求书

1.一种用于沉积填充物的沉积设备，所述设备包括：

壳体，其包括填料入口和填料出口；

转子构件，其被构造成在所述壳体内旋转，所述转子构件包括在至少两个通道开口之间延伸穿过的至少一个通道，使得所述转子构件的旋转使所述至少两个通道开口中的至少一个移动至与填料入口和填料出口对齐和不对齐；和

活塞构件，其位于所述至少一个通道内，并且随着所述转子构件的旋转而运动。

2.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述活塞构件移动以允许用于填充物进入所述通道的空间并且从所述通道排出接收到的填充物。

3.根据权利要求1或2所述的沉积设备，其中所述转子构件大体上是筒状的。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的沉积设备，其中所述至少一个通道在两个相对的通道开口之间大体上垂直于所述转子构件的旋转轴线延伸。

5.根据权利要求3所述的沉积设备，其中所述至少一个通道在两个相对的通道开口之间沿着所述转子构件的直径延伸。

6.根据权利要求4或5所述的沉积设备，其中所述两个相对的通道开口绕转子构件偏移180度。

7.根据权利要求3至6中任一项所述的沉积设备，其中所述壳体具有构造成装配所述筒形转子构件的圆柱形内腔。

8.根据权利要求7所述的沉积设备，其中填料入口和填料出口是由壳体中通向所述内腔的一个或多个开口形成。

9.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述壳体大体上为管形。

10.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述转子构件包括穿过其延伸的多个通道，每个通道包括在其内的各自的活塞构件。

11.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中，所述至少一个通道和在其内的活塞构件被成形为允许所述活塞构件在所述通道内的滑动运动并且限制所述活塞构件在所述通道内的旋转运动。

12.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述活塞构件是具有两端部的大致细长形。

13.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述活塞构件大体上为圆柱形。

14.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述活塞构件大体上为圆柱形，但是具有沿其弯曲表面朝轴向方向延伸的至少一个边缘。

15.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述至少一个通道和在其内的活塞构件的对应轴向横截面为圆的优弧段的形状。

16.根据权利要求1至14中任一项所述的沉积设备，其中所述至少一个通道和在其内的活塞构件的对应轴向横截面为圆形去除一个或多个劣弧段后的形状。

17.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述活塞构件的端部是弯曲的。

18.根据权利要求3所述的沉积设备，其中所述活塞构件的端部是弓形的并且具有与转子构件的曲率半径对应的曲率半径。

19.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述活塞构件的端部移动到与所述至少两个通道开口对齐和不对齐，以间歇地占据通道开口。

20.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中活塞构件的端部成形为使得当活塞构件的端部与通道开口对齐时，活塞端部和转子构件的表面形成大体上平滑的连续表面。

21.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述填料入口朝上和所述填料出口朝下，使得当所述通道开口中的第一通道开口与所述填料入口对齐时，重力作用使所述活塞构件向与第一通道开口相对的所述通道开口中的第二通道开口向下移动，以允许用于填充物经由第一开口进入通道的空间。

22.根据前述权利要求中任一项所述的沉积设备，其中所述至少一个通道中的所述活塞构件移动以同时允许用于填充物在所述至少两个通道开口中的第一个通道开口进入所述通道的空间，并且从与第一个通道开口相反的至少两个通道开口中的第二个通道开口排出接收的填充物。