[发明专利]一种沉积设备

说明书

技术领域

本发明涉及沉积设备，特别涉及用于沉积诸如饼馅等食物填充物的设备。

背景技术

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用于注射饼馅的工业沉积机器通常是大型的、复杂的，并且难以清洁。饼馅本身是固有地具有粘性，并且经常粘附在传统填充沉积器的组件上。例如，在使用活塞的沉积器中，馅饼填充物经常粘附到活塞的沉积端。这可能导致沉积的填充量不一致，一些馅饼的填充量比其他馅饼的填充量多。很明显，这可能是馅饼供应商渴望的如何能提供一致的高品质产品的问题。

本发明寻求解决与现有的沉积设备相关联问题中的至少一些问题。

发明内容

在一种广泛的形式中，本发明提供一种用于沉积填充物质的沉积设备，该设备包括：壳体，其包括填料入口和填料出口；转子构件，其构造成在所述壳体内旋转，所述转子构件包括在至少两个通道开口之间延伸穿过的至少一个通道，使得所述转子构件的旋转使所述至少两个通道开口中的至少一个移动至与填料入口和填料出口对齐和不对齐；以及活塞构件，其位于至少一个通道内，并且随着所述转子构件的旋转而移动。

在一种形式中，活塞构件移动以允许用于填充物质进入通道的空间并从通道排出接收的填充物质。

在一种形式中，转子构件是大体上筒状的。

在一种形式中，至少一个通道在两个相对的通道开口之间大体上垂直于转子构件的旋转轴线延伸。

在另一形式中，至少一个通道在两个相对的通道开口之间沿着所述转子构件的直径延伸。

在一种形式中，两个相对的通道开口围绕转子构件偏移180度。

在另一种形式中，壳体具有构造成装配筒状转子构件的圆柱形内腔。

在一种形式中，填料入口和填料出口是由壳体中通向所述内腔的一个或多个开口形成。

在另一种形式中，壳体大体为管形。

在一种形式中，转子构件包括穿过其本身延伸的多个通道，每个通道包括在其内的各自的活塞构件。

在另一种形式中，至少一个通道和在其内的活塞构件成形为允许活塞构件在通道内的滑动运动，并且限制活塞构件在通道内的旋转运动。

在另一种形式中，活塞构件是具有两端部的大体细长形。

在一种形式中，活塞构件大体上为圆柱形。

在另一种形式中，活塞构件大体上为圆柱形，但是具有沿其弯曲表面在轴向方向上延伸的至少一个边缘。

在一种形式中，至少一个通道和在其内的活塞构件的对应轴向横截面为圆的优弧段的形状。

在另一个形式中，至少一个通道和在其内的活塞构件的对应轴向横截面为圆形去除一个或多个劣弧段后的形状。

在另一种形式中，活塞构件的端部是弯曲的。

在另一种形式中，所述活塞构件的端部是弓形的并且具有与转子构件的曲率半径对应的曲率半径。

在一种形式中，其中所述活塞构件的端部移动到与所述至少两个通道开口对齐和不对齐，以间歇地占据通道开口。

在一种形式中，活塞构件的端部成形为使得当活塞构件的端部与通道开口对齐时，活塞端部和转子构件的表面形成大体上平滑的连续表面。

在另一种形式中，所述填料入口朝上和所述填料出口朝下，使得当所述通道开口中的第一通道开口与所述填料入口对齐时，重力作用使所述活塞构件向与第一通道开口相对的所述通道开口中的第二通道开口向下移动，以允许用于填充物经由第一开口进入通道的空间。

在一种形式中，所述至少一个通道中的所述活塞构件移动以同时允许用于填充物在所述至少两个通道开口中的第一个通道开口进入所述通道的空间，并且从与第一个通道开口相反的至少两个通道开口中的第二个通道开口排出接收的填充物。

在一种形式中，该设备进一步包括用于保持所述壳体的支撑件，使得所述填料入口大体上朝上和所述填料出口大体上朝下。

在另一种形式中，该装置进一步包括构造成使转子构件旋转的驱动装置。

在一种形式中，所述沉积设备包括用于根据预编程旋转序列来控制所述驱动装置的控制系统。

在另一种形式中，预编程的旋转序列包括刮除旋转序列。

在一种形式中，所述刮除旋转序列包括以往复运动的方式旋转所述筒体。