[发明专利]整料体

权利要求书

1.色谱整料体用于从样品分离分析物的用途，其中所述样品包含放射性物质，且其中所述整料体为无机整料体，并且为微流体流动系统的部分。

2.权利要求1的用途，其中所述整料体包括选自硅基组合物、铝基组合物和钛基组合物的组合物，且其中各组合物任选经化学官能化。

3.权利要求2的用途，其中所述组合物选自二氧化硅基组合物、氧化铝基组合物和二氧化钛基组合物，其中各组合物任选经化学官能化。

4.权利要求2的用途，其中所述整料体包括选自二氧化硅、硅酰亚胺基氮化物、硅酰亚胺和氮化硅的硅基组合物，其中各组合物任选经化学官能化。

5.前述权利要求中任一项的用途，其中所述整料体包括二氧化硅或化学官能化二氧化硅。

6.前述权利要求中任一项的用途，其中所述整料体为阳离子交换整料体，例如，整料体包括用丙基磺酸基改性的二氧化硅。

7.前述权利要求中任一项的用途，其中所述整料体为阴离子交换整料体，例如，整料体包括用季铵改性的二氧化硅。

8.前述权利要求中任一项的用途，其中所述整料体为反相整料体，例如，整料体包括用十八烷基碳基改性的二氧化硅。

9.前述权利要求中任一项的用途，其中所述分析物为放射性同位素或其阳离子或阴离子。

10.前述权利要求中任一项的用途，其中所述分析物为放射性同位素或其阳离子或阴离子，所述样品为从回旋加速器或衰变发生器产生的放射性溶液。

11.前述权利要求中任一项的用途，其中所述分析物为放射性同位素[¹⁸F]氟化物。

12.前述权利要求中任一项的用途，其中所述分析物为放射性同位素⁶⁸Ga或其阳离子(例如，⁶⁸Ga³⁺)。

13.权利要求1至8中任一项的用途，其中所述分析物为放射性药物前体或其受保护形式(例如，乙酰化[¹⁸F]FDG)，所述样品为反应混合物。

14.权利要求1至8中任一项的用途，其中所述分析物为放射性药物。

15. 权利要求14的用途，其中所述分析物为选自以下的放射性示踪剂：¹⁸F-FLT ([¹⁸F]氟胸苷)、¹⁸F-FDDNP (2-(1-{6-[(2-[¹⁸F]氟乙基)(甲基)氨基]2-萘基}乙叉基)丙二腈)、¹⁸F-FHBG (9-[4-[¹⁸F]氟-3-(羟甲基)丁基]鸟嘌呤或[¹⁸F]喷昔洛韦)、¹⁸F-FESP ([¹⁸F]氟乙基螺哌隆)、¹⁸F-p-MPPF (4-(2-甲氧基苯基)-1-[2-(N-2-吡啶基)-p-[¹⁸F]氟苯甲酰氨基]乙基哌嗪)、¹⁸F-FDG (2-[¹⁸F]氟-2-去氧-D-葡萄糖)、¹⁸F-FMISO ([¹⁸F]氟米索硝唑)和¹⁸F-氟化钠。

16.前述权利要求中任一项的用途，其中所述分析物为杂质，所述样品为放射性示踪剂的溶液。

17.前述权利要求中任一项的用途，其中所述分析物为选自¹⁸F和内毒素的杂质，所述整料体为正相整料体(例如，包含氧化铝或二氧化硅)，或者任选其中分析物为选自K222、FDM和ClDG的杂质，整料体为反相整料体。

18.前述权利要求中任一项的用途，其中分析物为选自乙酰化[¹⁸F]FDG、乙酰化[¹⁸F]FDM、甘露糖三氟甲磺酸酯和K222的杂质，且整料体为反相整料体(例如，包括用十八烷基碳改性的二氧化硅)。

19.前述权利要求中任一项的用途，其中所述分析物为选自K222和氢氧化钠的杂质，且所述整料体为阳离子交换整料体(例如，用丙基磺酸基改性的二氧化硅)。