[发明专利]用于半导体部件的引线框架及包括引线框架的电路装置有效

专利信息
申请号: 201580059291.4 申请日: 2015-09-16
公开(公告)号: CN107004666B 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: O.波拉;M.瓦尔克 申请(专利权)人: 大陆泰密克微电子有限责任公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495
代理公司: 72001 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 周春梅;安文森
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 用于 半导体 部件 引线 框架 包括 电路 装置
【权利要求书】:

1.一种用于半导体部件(HB)的引线框架(AR),包括:

- 凹部(AS);

- 导电的连接元件(PF),所述连接元件用于建立与所述半导体部件(HB)的电连接,所述连接元件设置在所述凹部(AS)中;

- 绝缘元件(IS),所述绝缘元件设置在所述凹部(AS)中并且使所述连接元件(PF)机械地连接至所述引线框架(AR),并且使所述连接元件与所述引线框架(AR)电绝缘,

所述绝缘元件(IS)具有柱形的第一腔体(HR1),插入元件(EE)设置在所述第一腔体(HR1)中,所述插入元件(EE)使所述绝缘元件(IS)与所述连接元件(PF)机械地连接至彼此,所述插入元件(EE)具有导电的接触面(KF),接合线焊接至该接触面上并且因此与插入元件(EE)电接触,以用于建立所述插入元件(EE)与所述半导体部件(HB)的接合连接(BD)。

2.根据权利要求1所述的引线框架(AR),其中,所述插入元件(EE)以导电的方式被实施。

3.根据权利要求1或2所述的引线框架(AR),其中,所述绝缘元件(IS)包括基部区域(BB),所述基部区域(BB)在一侧上使所述腔体(HR1)封闭,并且使所述连接元件(PF)与所述引线框架(AR)电绝缘。

4.根据权利要求1或2所述的引线框架(AR),其中,所述插入元件(EE)围住柱形的第二腔体(HR2),所述连接元件(PF)设置在所述第二腔体中,并且电连接且机械连接至所述插入元件(EE)。

5.根据权利要求4所述的引线框架(AR),其中,所述连接元件(PF)以形状配合和/或力配合的方式连接至所述插入元件(EE)。

6.根据权利要求4所述的引线框架(AR),其中,所述插入元件(EE)包括模制元件(AF),所述模制元件(AF)远离所述柱形的第二腔体(HR2)延伸。

7.一种电路装置(SA),包括至少一个半导体部件(HB)并且包括至少一个根据前述权利要求之一所述的引线框架(AR),其中,所述至少一个半导体部件(HB)设置在所述至少一个引线框架(AR)的表面(OF、OF2)上,并且经由接合连接(BD)电连接至所述至少一个引线框架(AR)的所述连接元件(PF)。

8.根据权利要求7所述的电路装置(SA),包括:

- 分别用于至少一个半导体部件(HB)的两个引线框架(AR),其中,所述两个引线框架(AR)的每一个具有凹部(AS);

- 导电的连接元件(PF),所述连接元件(PF)用于建立与所述至少两个半导体部件(HB)中的至少一个的电连接,所述连接元件(PF)设置在所述两个凹部(AS)之一中;

- 绝缘元件(IS),所述绝缘元件设置在所述两个凹部(AS)中,并且使所述连接元件(PF)与所述两个引线框架(AR)电绝缘。

9.根据权利要求8所述的电路装置(SA),还包括插入元件(EE1),所述插入元件设置在所述两个凹部(AS)中,并且使所述两个引线框架(AR)机械连接至彼此。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大陆泰密克微电子有限责任公司,未经大陆泰密克微电子有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201580059291.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top