[发明专利]分析及利用景观

说明书

本发明提供导出计量度量对配方参数的部分连续相依性、分析所述导出的相依性、根据所述分析来确定计量配方，及根据所述确定的配方来进行计量测量的方法。所述相依性可以景观(例如敏感度景观)的形式来进行分析，其中以分析方式、以数字方式或以实验方式检测具有低敏感度的区域，及/或具有低或零不准确度的点或轮廓，且用于配置测量、硬件及目标的参数，以实现高测量准确度。工艺变化是就其对所述敏感度景观的效应进行分析，且这些效应用于进一步特性化所述工艺变化，以优化所述测量且使所述计量对于不准确度源更稳健，且相对于晶片上的不同目标及可用测量条件更灵活。

相关申请案的交叉参考

本申请案主张2014年11月25日申请的第62/083,891号美国临时专利申请案及2015年1月6日申请的第62/100,384号美国临时专利申请案的权益，所述临时专利申请案以全文引用方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及计量领域，且更特定来说，涉及减少或消除叠加光学计量中的不准确度。

背景技术

光学计量技术通常要求造成计量信号的不对称的工艺变化远小于某一阈值，使得其部分不对称信号远小于由叠加造成的信号不对称。然而实际上，此类工艺变化可相当大(尤其在芯片开发的研究及开发阶段中)且其可引发由计量报告的叠加中的相当大误差。光学计量技术具有可大到几纳米的准确度预算。此适用于全部类型的光学叠加计量，其包含基于成像、基于散射测量(其中将检测器放置于光瞳或场中)的光学叠加计量及其衍生物。然而，来自工艺变化的误差可达到纳米范围，借此消耗叠加计量预算的显著部分。

光学叠加计量是归因于两个光刻步骤之间的叠加的由计量信号载送的不对称的计量。此不对称存在于电磁信号中，这是因为所述电磁信号反映电场对载送叠加信息的相对相位的干扰。在叠加散射测量(光瞳散射测量或场散射测量)中，叠加标记通常是光栅覆光栅结构，且叠加信息载送于下部光栅与上部光栅的相对相位中。

在并排类型的叠加散射测量中(例如，参见第2014062972号WIPO公开案，其以全文引用方式并入本文中)，叠加标记(即，计量目标)可包括光栅毗邻光栅的结构，且叠加信息也可载送于下部光栅与上部光栅的相对相位中。

在叠加成像中，叠加标记(即，计量目标)由用于分离层的分离标记组成，且叠加信息载送于每一个别标记在检测器上的位置中，所述叠加信息又是所述个别标记的不同衍射阶之间的干扰的结果。

用于降低测量不准确度的当前方法论涉及针对准确度及TMU(总测量不确定度)执行大尺度配方及目标设计优化，此最小化信号中的叠加引发的不对称及由其它工艺变化造成的不对称。举例来说，可呈近详尽搜索的形式从各种各样的选项中选取配方与目标的最佳组合。在另一实例中，从计量信号或从外部校准计量导出优化度量。

发明内容

下文是提供本发明的初步理解的简化概述。所述概述既不一定识别关键要素，也不限制本发明的范围，而仅作为以下描述的介绍。

本发明的一个方面提供一种方法，其包括：通过模拟或以预备测量导出至少一个计量度量对至少一个配方参数的至少部分连续相依性；分析所述导出的相依性；根据所述分析确定计量配方；及根据所述确定的配方进行至少一个计量测量。

本发明的这些、额外及/或其它方面及/或优点在随后的详细描述中陈述；可能可从详细描述推论；及/或可通过本发明的实践学习。

附图说明

为了更好地理解本发明的实施例及为了展示可如何实行所述实施例，现将纯粹通过实例参考附图，其中相似的元件符号始终指定对应元件或部分。

在附图中：

图1呈现根据本发明的一些实施例的模拟的每像素叠加敏感度中的轮廓线的实例。

图2A及2B说明根据本发明的一些实施例的指示谐振的示范性模拟结果。