[发明专利]环境受控的涂层系统

权利要求书

1.一种用于在基板上提供涂层的方法，包括：

在有机薄膜涂层系统的输送模块中接收基板；

将基板输送给包含狭缝式模头涂层组件的封闭涂层模块，所述封闭涂层模块配置成在基板上制造的电子装置的至少一部分上的沉积区域中沉积图案化有机材料层；

使用基板支撑设备在封闭涂层模块中一致地支撑基板，所述基板支撑设备具有多孔介质，该多孔介质在基板和基板支撑设备之间建立气垫；

使用所述狭缝式模头涂层组件在基板的沉积区域上涂层有机材料，同时用基板支撑设备一致地支撑基板；

将基板从封闭涂层模块输送给输送模块；

将基板从输送模块输送给封闭固化模块；以及

在封闭固化模块中处理基板上的沉积有机材料，以在基板的沉积区域中提供有机膜层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在有机薄膜涂层系统的输送模块中接收基板包括从与涂层系统的环境不同的环境接收基板。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，气垫使用加压气体建立。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，气垫使用加压气体区域和至少部分真空区域的组合建立。

5.根据权利要求1所述的方法，还包括：将所述封闭涂层模块封闭在封闭件内，并且在所述封闭件内维持处于或接近大气条件的受控处理环境。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，受控处理环境维持在颗粒污染水平的指定极限值下。

7.根据权利要求5所述的方法，其中，维持受控处理环境包括维持各种反应物种的每个物种的水平处于100ppm或更少下。

8.根据权利要求1所述的方法，还包括：在使用所述狭缝式模头涂层组件在基板的沉积区域上涂层有机材料的同时，将所述基板和所述狭缝模头涂层组件相对于彼此定位。

9.一种涂层系统，包括：

限定内部的气体封闭件，其中，受控环境维持在所述内部中；

收容在气体封闭件的内部中的涂层设备，所述涂层设备包括：

狭缝式模头涂层组件；用于支撑基板的基板支撑系统；和

配置成将基板和狭缝式模头涂层组件相对于彼此定位的运动系统；

与气体封闭件的内部流体连通的气体循环和过滤系统；以及

与气体封闭件的内部流体连通的气体净化系统。

10.根据权利要求9所述的涂层系统，其中，所述狭缝式模头涂层组件配置成在基板上以图案沉积材料以涂层基板。

11.根据权利要求9所述的涂层系统，其中，受控环境包括惰性环境。

12.根据权利要求11所述的涂层系统，其中，惰性环境使用选自氮气、任何稀有气体及其组合的惰性气体维持。

13.根据权利要求9所述的涂层系统，其中，气体净化系统配置成维持内部中的每种反应性物种处于100ppm或更少。

14.根据权利要求9所述的涂层系统，其中，基板支撑系统包括悬浮台。

15.根据权利要求9所述的涂层系统，其中，气体循环和过滤系统配置成提供通过内部的气体的基本层流。

16.根据权利要求9所述的涂层系统，其中，气体封闭件的容积在6m³至95m³之间。