[发明专利]用于提供在其中执行光学接触的湿度受控环境的设备及方法有效
申请号: | 201580065529.4 | 申请日: | 2015-06-24 |
公开(公告)号: | CN107003499B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | B·雅各布维茨 | 申请(专利权)人: | 科磊股份有限公司 |
主分类号: | G02B7/20 | 分类号: | G02B7/20 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 提供 其中 执行 光学 接触 湿度 受控 环境 设备 方法 | ||
1.一种用于执行光学接触的方法,其包括:
创建具有大体上环境温度的环境;
通过使惰性气体流过所述环境来控制所述环境的湿度水平;以及
在所述湿度受控环境内光学接触多个子组件以形成光学组件,
所述方法进一步包括监测所述环境的所述湿度水平,且其中控制所述环境的所述湿度水平包含基于所述监测来调整通过所述环境的所述惰性气体的流动,
其中所述惰性气体使用所述环境的至少一对接入点流过所述环境,所述惰性气体使用所述一对接入点中的第一接入点进入所述环境,所述惰性气体使用所述一对接入点中的第二接入点逸出所述环境,所述第一接入点与所述环境之间存在密封以防止所述惰性气体在所述第一接入点与所述环境之间的接触点处逸出,并且所述第二接入点与所述环境之间存在密封以防止所述惰性气体在所述第二接入点与所述环境之间的接触点处逸出。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述环境是使用洁净室来创建。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述环境是使用手套箱来创建。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述环境是使用工装台来创建。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述环境是使用腔室来创建。
6.根据权利要求1所述的方法,其中通过维持在30%或以下的相对湿度来控制所述环境的所述湿度水平。
7.一种用于执行光学接触的设备,其包括:
外壳,在所述外壳内提供具有大体上环境温度的环境;
流通装置,其连接到所述外壳,用于使惰性气体流过所述外壳以控制所述环境的湿度水平;
一或多个工具,其用于在所述湿度受控环境内光学接触多个子组件以形成光学组件;
监测装置,其用于监测所述环境的所述湿度水平;及
控制装置,其基于所述监测来调整通过所述环境的所述惰性气体的流动,
其中所述惰性气体使用所述环境的至少一对接入点流过所述环境,所述惰性气体使用所述一对接入点中的第一接入点进入所述环境,所述惰性气体使用所述一对接入点中的第二接入点逸出所述环境,所述第一接入点与所述环境之间存在密封以防止所述惰性气体在所述第一接入点与所述环境之间的接触点处逸出,并且所述第二接入点与所述环境之间存在密封以防止所述惰性气体在所述第二接入点与所述环境之间的接触点处逸出。
8.根据权利要求7所述的设备,其中所述外壳是洁净室。
9.根据权利要求7所述的设备,其中所述外壳是手套箱。
10.根据权利要求7所述的设备,其中所述外壳是工装台。
11.根据权利要求7所述的设备,其中所述外壳是腔室。
12.根据权利要求7所述的设备,其中通过保持在30%或以下的相对湿度来控制所述环境的所述湿度水平。
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