[发明专利]用于提供在其中执行光学接触的湿度受控环境的设备及方法

说明书

本发明描述一种用于提供在其中执行光学接触的湿度受控环境的设备及方法。在使用中，创建具有大体上环境温度的环境。通过使惰性气体流过所述环境进一步控制所述环境的湿度水平。在所述湿度受控环境内，多个子组件接着经光学接触以形成光学组件。

相关申请案

本申请案主张2014年12月1日申请的第62/086,138号美国临时专利申请案的权益，所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及光学接触，且更特定来说涉及在其中执行光学接触的环境。

背景技术

光学接触是通过其在两个或更多个子组件中的每一者的表面之间进行接触使得子组件经接合以形成单个光学组件的过程。在一些实例中，接触的子组件可为棱镜、透镜等等，并且所得光学组件可为偏振器、分束器等等。令人遗憾地，用于执行光学接触的当前技术展现出各种限制。

例如，传统上在没有控制湿度的环境(例如，洁净室等)内执行光学接触。然而，当执行光学接触时，最近已发现高于某一水平的湿度导致湿气被吸收到在进行接触的子组件表面上。此水吸收接着导致水陷于接触表面之间且因此陷在所形成的光学组件内，这最终负面地影响光学组件的功能。特定来说，在接触其中具有水的光学组件时，深紫外线(DUV)或真空UV(VUV)波长范围中的光可能不像预期的进行反应。此外，当水已在接触过程期间被表面吸收时，接触的子组件表面之间也可能发生分层。

到目前为止，光学接触过程没有具体解决周围湿度以避免上述问题及/或由于在潮湿环境中执行光学接触而直接产生的其它问题。因此，需要解决与现有技术光学接触过程相关的这些及/或其它问题。

发明内容

描述一种用于提供在其中执行光学接触的湿度受控环境的设备及方法。在使用中，创建具有大体上环境温度的环境。通过使惰性气体流过所述环境进一步控制所述环境的湿度水平。在所述湿度受控环境内，多个子组件接着经光学接触以形成光学组件。

附图说明

图1展示根据现有技术的示范性计量工具的示意图。

图2说明根据实施例的用于提供在其中执行光学接触的湿度受控环境的方法。

图3说明根据另一实施例的提供在其中执行光学接触的湿度受控环境的设备。

具体实施方式

以下描述揭示一种用于提供在其中执行光学接触的湿度受控环境的方法及设备。最终，光学接触形成光学组件，其可在用于识别目标组件中的缺陷的检验系统(例如晶片检验、光罩检验等等)、用以重新定位由检验系统发现的缺陷的检视系统及/或用于测量结构及/或目标组件的计量系统中实施。作为背景，下文更详细地描述计量系统。

在半导体计量学领域中，计量工具可包括：照明系统，其照射目标；收集系统，其捕获由照明系统与目标、装置或特征的相互作用(或其缺乏)提供的相关信息；及处理系统，其使用一或多个算法分析收集的信息。计量工具可用以测量与各种半导体制造工艺相关联的结构及材料特性(例如，材料组成、结构及膜的尺寸特性(例如膜厚度)及/或结构的临界尺寸、重叠等等)。这些测量用以促进半导体裸片制造中的工艺控制及/或产量效率。

计量工具可包括一或多个硬件配置，其可与本发明的某些实施例结合使用以(例如)测量各种上述半导体结构及材料特性。此类硬件配置的实例包含(但不限于)以下各者。

光谱椭偏仪(SE)

具有多个照明角度的SE

测量穆勒(Mueller)矩阵元件(例如使用旋转补偿器)的SE

单波长椭偏仪

光束轮廓椭偏仪(角分辨椭偏仪)

光束轮廓反射计(角分辨反射计)