[发明专利]用于灌装容器的设备和方法有效
申请号: | 201580065655.X | 申请日: | 2015-12-16 |
公开(公告)号: | CN107001020B | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | P·帕革利阿里尼 | 申请(专利权)人: | GEA普洛克玛柯股份公司 |
主分类号: | B67C7/00 | 分类号: | B67C7/00;B67C3/26 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 顾峻峰 |
地址: | 意大利萨*** | 国省代码: | 意大利;IT |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 灌装阀 颈部 灌装 产品分配 等离子体 产品灌装 灌装工位 灌装容器 外部环境 口部 分配 | ||
1.用于用灌装产品灌装容器(2)的灌装设备(10),包括:
具有多个灌装工位(1)的旋转转盘(10a),在每个灌装工位中均布置有一灌装阀(9),对应容器(2)可位于所述灌装阀(9)下方,其中,容器的口部(2b)面对所述灌装阀(9);
用于将每个容器(2)的颈部(2a)的第一处理容积(40)与包含所述容器(2)的主体(2d)的外部环境(6)分离的分离装置,所述第一处理容积(40)包括在对应灌装阀(9)与所述容器(2)的所述颈部(2a)的至少一部分之间;
分配装置,所述分配装置用于将流体分配到每个颈部(2a)的所述第一处理容积(40)中,以流过所述对应容器(2)的所述颈部(2a),进而防止污染物进入所述第一处理容积(40);
第一转移星(15),所述第一转移星位于所述旋转转盘(10a)上游,以将待灌装的容器(2)转移到所述旋转转盘(10a);
第二转移星(16),所述第二转移星位于所述旋转转盘(10a)下游,以从所述旋转转盘(10a)接收灌装好的容器(2),所述第一转移星(15)和所述第二转移星(16)均具有多个所述容器(2)的拾取工位(11),其特征在于,凹壳(3)布置在每个所述拾取工位(11)中,构造成施加到对应容器(2)的所述口部(2b)上,以至少部分地围绕其颈部(2a)包裹,从而限定所述颈部(2a)的第二处理容积(4),流过所述颈部(2a)的流体流保持在所述第二处理容积(4)内以防止污染物进入所述第二处理容积(4)。
2.如权利要求1所述的灌装设备(10),其特征在于,用于将所述第一处理容积(40)与所述外部环境(6)分离的分离装置,包括:用于每个灌装工位(1)的在对应灌装阀(9)外部并与其同心的管状元件(30),所述管状元件(30)能在位于所述灌装阀(9)下方的所述容器(2)的所述口部(2b)的至少一个脱开构型与一个接合构型之间直线移动。
3.如权利要求1或2所述的灌装设备(10),其特征在于,所述外部环境(6)是单一的,并且与所述灌装工位(1)的第一处理容积(40)不同,所述第一处理容积(40)与所述外部环境(6)流体连通。
4.如权利要求1所述的灌装设备(10),其特征在于,每个灌装阀(9)与虚拟瓶(19)类型的灭菌设备相关联,所述虚拟瓶类型的灭菌设备能被配置在至少一个静止位置和一个活动位置,在所述静止位置,其防止与所述灌装阀(9)相干涉,在所述活动位置,所述虚拟瓶(19)布置在所述灌装阀(9)下方,从而封闭所述第一处理容积(40)以防止与所述外部环境(6)流体连通。
5.如权利要求1所述的灌装设备(10),其特征在于,每个第一处理容积(40)不包含所述对应容器(2)的环部(2c)。
6.如权利要求1所述的灌装设备(10),其特征在于,所述分配装置包括:
等离子体发生器;
输送回路,所述输送回路用于将等离子体从所述等离子体发生器输送至所述第一处理容积(40),所述输送回路又包括在所述灌装阀(9)中提供的横向于用于分配所述灌装产品的分配管道(91)的管道(50、51)。
7.如权利要求6所述的灌装设备(10),其特征在于,所述等离子体发生器(5)构造成产生浸入气体流中的等离子体球。
8.如权利要求1所述的灌装设备(10),其特征在于,所述分配装置包括无菌空气源或灭菌气体源。
9.如权利要求1所述的灌装设备(10),其特征在于,所述第一转移星(15)包括:
第一隧道(T1),所述第一隧道具有弓形延伸部,至少对结束于所述旋转转盘(10a)附近的部段来说,所述第一隧道的弓形延伸部沿所述第一转移星(15)的周向展开;
将清洁流体分配到所述第一隧道(T1)中的第一分配装置,所述第一隧道(T1)耸立在所述第一转移星(15)的某些所述凹壳(3)上,使得所述清洁流体流过其外表面。
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