[发明专利]用于极紫外源的可变半径反射镜二向色分束器模块

说明书

一种激光产生等离子体极紫外激光源，包括至少一个可变半径反射镜。至少一个可变半径反射镜用于调整主脉冲的在与预脉冲焦面相距指定距离处的光束直径，其中预脉冲将微滴辐射成靶微滴并且主脉冲将靶微滴辐射成等离子体状态以生成极紫外辐射。

本申请根据35 USC 119(e)要求2014年12月16日在美国专利局提交的美国申请号为62/092,493、题为“Variable Radius Mirror Dichroic Beam Splitter Module forExtreme Ultraviolet Source(用于极紫外源的可变半径反射镜二向色分束器模块)”的共同拥有的临时专利申请的优先权，并且该申请通过引用并入本文。

技术领域

所公开的实施例涉及光学系统和激光源，并且特别地涉及调整激光源的光学器件。

背景技术

开发用于半导体光刻的EUV(极紫外)辐射的高效且可靠的源是活跃的研究领域。在一个途径中，诸如CO₂激光器等的激光源辐照锡(Sn)微滴，使得各微滴被加热成等离子体状态。由锡等离子体生成的辐射包括处于约13.5nm的波长的辐射。处于其他波长的辐射可以被过滤掉，由此提供EUV源，使得各种光刻步骤可以在13.5nm波长处执行。这样的源被称为LPP(激光产生等离子体)EUV辐射源。

图1是图示出LPP EUV辐射源100的部件中的一些的简化图。微滴发生器102提供由辐射的预脉冲辐照的熔融锡的液滴，用预脉冲106内的锡微滴104图形地指示。需理解的是，实施例不限于锡作为被辐照的材料。预脉冲106使锡微滴成形并膨胀成靶，使得靶可以更好地吸收辐射的主脉冲的能量，其中主脉冲将锡加热至等离子体状态，或者如果预脉冲106足以将锡的一些或所有加热成等离子体状态则进一步使锡转换成等离子体状态。

例如，在通过预脉冲106成形之后的锡微滴104用锡靶108表示，示出为相对于参考坐标系110的z轴倾斜的扁平盘。锡靶108在主脉冲112内被示出，以图形地表示锡靶108的辐照。收集器114将由锡等离子体生成的EUV辐射聚焦到一些中间焦点，在这些中间焦点处EUV辐射被提供给光刻工具(未示出)。

在图1的特定示例中，预脉冲106由称为预脉冲激光器116的激光振荡器生成。预脉冲激光器116的输出通过一个或多个反射镜120和一个或多个二向色分裂器122被提供给一个或多个功率放大器118。预脉冲112由称为主脉冲激光器124的激光振荡器生成。主脉冲激光器124的输出也被提供给一个或多个功率放大器118。

在图1的特定示例中，预脉冲激光器116的波长与主脉冲激光器124的波长不同，其中一个或多个二向色分裂器122允许将预脉冲激光器116和主脉冲激光器124的输出恰当输送到一个或多个功率放大器118。预脉冲106和主脉冲112通过收集器114中的开口被分别引导至锡微滴104和锡靶108。锡靶108相对于z轴的倾斜有助于减轻主脉冲112反射离开锡靶108和通过收集器114的开口回到一个或多个功率放大器118。功率放大器118的输出的一部分被反射离开分裂器115并且到功率计117，使得可以测量功率放大器118的输出。

为了减轻对由锡等离子体生成的EUV辐射的吸收，锡微滴的辐照发生在被保持处于低压力的室119中，其中低压力可以称为真空。于是，诸如最终聚焦模块121等的用于将预脉冲106和主脉冲112提供给锡的一些模块在真空内使用，并因此被示出在室119内。其他模块可以在普通大气压力下使用。室119中的窗口123用作室119与处于普通大气压力的其他模块之间的光学接口，使得提供给最终聚焦模块121的预脉冲106和主脉冲112可以由在普通大气压力下操作的模块生成。