[发明专利]磁记录介质和磁记录再现装置有效

专利信息
申请号: 201580068639.6 申请日: 2015-12-16
公开(公告)号: CN107004430B 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 中村悟;洪泰宁;郭嘉骐;远藤大三 申请(专利权)人: 昭和电工株式会社
主分类号: G11B5/725 分类号: G11B5/725;C10M105/54;C10M107/38;G11B5/84
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 记录 介质 再现 装置
【说明书】:

一种磁记录介质,润滑剂层包含式(1)所示的化合物A和式(2)所示的化合物B,(A/B)为0.2~3.0,且平均膜厚为0.8nm~2nm。R1‑C6H4OCH2CH(OH)CH2OCH2‑R2‑CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥‥(1)(R1为碳原子数1~4的烷氧基。R2为‑CF2O(CF2CF2O)x(CF2O)yCF2‑(x、y为0~15)、‑CF2CF2O(CF2CF2CF2O)zCF2CF2‑(z为1~15)、‑CF2CF2CF2O(CF2CF2CF2CF2O)nCF2CF2CF2‑(n为0~4)。HOCH2CF2CF2O(CF2CF2CF2O)mCF2CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH‥‥(2)(m为整数)。

技术领域

本发明涉及硬盘驱动器等磁记录再现装置中优选使用的磁记录介质和具备其的磁记录再现装置。

本申请要求基于2014年12月19日在日本申请的特愿2014-257205号、2015年6月12日在日本申请的特愿2015-119737号和2015年6月12日在日本申请的特愿2015-119743号的优先权,将其内容引入至此。

背景技术

为了提高磁记录再现装置的记录密度,正在推进适于高记录密度的磁记录介质的开发。

作为磁记录介质,有:在磁记录介质用的基板上依次形成记录信息的磁性层、由碳等形成的保护层和润滑剂层的磁记录介质。

保护层保护磁性层中记录的信息,且提高磁头相对于磁记录介质的滑动性。然而,仅在磁性层上设置保护层时,无法充分获得磁记录介质的耐久性。

因此,一般来说,在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑剂层,使磁记录介质的耐久性提高。通过设置润滑剂层,可以防止磁记录再现装置的磁头与保护层直接接触。另外,通过设置润滑剂层,可以明显降低磁记录介质与在磁记录介质上滑动的磁头的摩擦力。另外,润滑剂层具有防止因自周围环境侵入的杂质而导致的磁记录介质的磁性层等被腐蚀的作用。

以往,作为磁记录介质的润滑剂层中使用的润滑剂,有全氟聚醚系润滑剂、脂肪族烃系润滑剂等。

例如,专利文献1中公开了,将具有HOCH2-CF2O-(C2F4O)p-(CF2O)q-CH2OH(p、q为整数。)的结构的全氟烷基聚醚的润滑剂涂布到碳保护膜上而成的磁记录介质。

专利文献2中公开了,涂布了包含HOCH2CH(OH)-CH2OCH2CF2O-(C2F4O)p-(CF2O)q-CF2CH2OCH2-CH(OH)CH2OH(p、q为整数。)所示的全氟烷基聚醚(四醇)的润滑剂而成的磁记录介质。

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