[发明专利]掠入射荧光X射线分析装置和方法

权利要求书

1.一种掠入射荧光X射线分析装置，该掠入射荧光X射线分析装置包括：

放射X射线的X射线源；

弯曲分光元件，该弯曲分光元件对从上述X射线源所放射的X射线进行分光，形成汇聚于试样的表面的一定位置的X射线束；

狭缝，该狭缝设置于上述弯曲分光元件和试样之间，具有在聚光角方向限制所通过的上述X射线束的宽度的线状开口；

狭缝移动机构，该狭缝移动机构将上述狭缝移动到与通过上述线状开口的上述X射线束相交叉的方向；

掠射角设定机构，该掠射角设定机构控制狭缝移动机构，移动狭缝，该掠射角设定机构在通过上述狭缝移动机构移动上述狭缝后，将上述X射线束的掠射角设定在所需的角度；

检测器，该检测器测定从照射了上述X射线束的试样而产生的荧光X射线的强度。

2.根据权利要求1所述的掠入射荧光X射线分析装置，其中，上述狭缝为可改变上述线状开口的宽度的可变狭缝。

3.根据权利要求1或2所述的掠入射荧光X射线分析装置，其中，上述弯曲分光元件由多层膜构成，在该多层膜中，于衬底上叠置多个层对，该层对由反射层和间隔层构成，具有规定的周期长度，上述反射层和间隔层的厚度的比在1∶1.4～1∶4的范围内，或者，

上述弯曲分光元件由多层膜构成，在该多层膜中，于衬底上叠置多个层对，该层对由反射层和间隔层构成，具有规定的周期长度，上述多层膜具有多张，越是接近衬底的多层膜，上述规定的周期长度设定得越小。

4.根据权利要求3所述的掠入射荧光X射线分析装置，其中，其包括滤波片或外加电压可变机构，该滤波片从上述X射线源到试样的X射线光路中能自由进退，具有高于高能量侧的透射率，该外加电压可变机构能改变施加于上述X射线源的外加电压；

通过上述滤波片或上述外加电压可变机构，能改变上述X射线束中包括的能量不同的多根X射线的强度比。

5.一种荧光X射线分析方法，该荧光X射线分析方法采用权利要求1～4中的任何一项所述的掠入射荧光X射线分析装置进行分析。