[发明专利]掠入射荧光X射线分析装置和方法

说明书

本发明的掠入射荧光X射线分析装置(1)包括：X射线源(2)；弯曲分光元件(4)，该弯曲分光元件(4)对从X射线源(2)所放射的X射线(3)进行分光，形成汇聚于试样(S)的表面的一定位置(15)的X射线束(5)；狭缝(6)，该狭缝(6)设置于弯曲分光元件(4)和试样(S)之间，具有线状开口(61)；狭缝移动机构(7)，该狭缝移动机构(7)将狭缝(6)移动到与通过线状开口(61)的X射线束(5)相交叉的方向；掠射角设定机构(8)，该掠射角设定机构(8)在通过狭缝移动机构(7)移动狭缝(6)后，将X射线束(5)的掠射角(α)设定在所需的角度；检测器(10)，该检测器(10)测定从照射了X射线束(5)的试样(S)而产生的荧光X射线(9)的强度。

相关申请

本发明要求申请日为2014年12月25日、申请号为JP特愿2014—262464号申请的优先权，通过参照其整体，将其作为构成本申请的一部分的内容而进行引用。

技术领域

本发明涉及对试样进行照射的X射线源的一次X射线的掠射角进行自动调整的掠入射荧光X射线分析装置和方法。

背景技术

过去，为了使从试样而产生的荧光X射线的强度为最大，具有下述的荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：多个X射线源；X射线源选择机构，该X射线源选择机构从多个X射线源中选择1个X射线源；X射线源调整机构，该X射线源调整机构调整X射线源位置；分光元件位置调整机构，该分光元件位置调整机构调整分光元件位置，其中，通过自动调整对应于分析目的而选择的X射线源的一次X射线的照射位置和照射角度，经常、短时间地进行高灵敏度、高精度的分析(专利文献1)。

已有技术文献

专利文献

专利文献1：JP特开2008—32703号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，对于该荧光X射线分析装置，必须要求多个机构，该多个机构为从多个X射线源中选择1个X射线源的X射线源选择机构；调整X射线源的位置的X射线源调整机构；分光元件位置调整机构等，该分光元件位置调整机构调整分光元件的位置，装置的结构是复杂的，导致成本上升。

于是，本发明是针对这样的问题而提出的，本发明的目的在于，提供一种掠入射荧光X射线分析装置，其中，在溶液点滴干燥于衬底上的试样中的元素的定量、或形成于衬底上的薄膜试样的膜厚测定等的各种测定中，通过低成本的简单的结构，将作为照射到试样中的一次X射线和试样的表面之间的角度的掠射角设定为最佳的角度，进行高灵敏度、高精度的分析。

用于解决课题的技术方案

为了实现上述目的，本发明涉及一种掠入射荧光X射线分析装置，该掠入射荧光X射线分析装置包括：放射X射线的X射线源；弯曲分光元件，该弯曲分光元件对从上述X射线源所放射的X射线进行分光，形成汇聚于试样的表面的一定位置的X射线束；狭缝，该狭缝设置于上述弯曲分光元件和试样之间，具有在聚光角方向限制所通过的上述X射线束的宽度的线状开口；狭缝移动机构，该狭缝移动机构将上述狭缝移动到与通过上述线状开口的上述X射线束相交叉的方向；掠射角设定机构，该掠射角设定机构在通过上述狭缝移动机构移动上述狭缝后，将上述X射线束的掠射角设定在所需的角度；检测器，该检测器测定从照射了上述X射线束的试样而产生的荧光X射线的强度。

按照本发明的第1方案的掠入射荧光X射线分析装置，在溶液点滴干燥于衬底上的试样中的元素的定量、或形成于衬底上的薄膜试样的膜厚测定等的各种测定中，通过低成本的简单的结构，设定为最佳的掠射角，进行高灵敏度的高精度的分析。