[发明专利]真空卡盘装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空卡盘装置。

详细地，本发明涉及一种真空卡盘装置，其包括真空卡盘构成部和框架，所述真空卡盘构成部使得在腔室(chamber)所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得用于实施作业或实验的对象物更加稳定地得到安装，所述框架用于使得所述真空卡盘构成部保持作业高度的状态下设置的同时，对用于驱动真空卡盘构成部的周边装置进行收纳，从而实现为单一的装置。

此外，本发明涉及一种真空卡盘装置，在所述框架上图像采集装置(camera)设置于真空卡盘构成部的上部，所述图像采集装置用于观察对象物的作业或实验状况，所述图像采集装置能够使得拍摄位置及角度变化的同时对作业状况进行观察。

背景技术

真空卡盘(Vacuum chuck)是利用真空对用于实施作业或实验的对象物进行固定的装置，这样的真空卡盘用于半导体集成电路的加工或薄板部件的加工或实验装备等。

尤其，为了所述半导体集成电路的加工，近来供给一种真空卡盘，所述真空卡盘构成为，为了使得吸附面保持最稳定的形态，将多孔硅制作成板(plate)形态，所述吸附面用于安装晶元等对象物，并且将由所述多孔硅形成的板部件与用于生生成真空的基底(base)结合。

韩国实用新型登记申请第2005-0030574号(利用多孔硅的双重结构的真空卡盘，以下称已申请发明)中提出了前述的真空卡盘。

已申请发明的真空卡盘使得相对于晶元背面的接触面积最小化，从而不仅具有减少粒子(particle)生成的效果，而且从形成于副卡盘基底(sub chuck base)的多个孔以均匀的压力对晶元进行吸附，从而使得放置于副卡盘基底上的晶元的平坦度稳定地保持，并防止晶元局部变形的同时，提高在光刻(photo)工艺中的晶元聚焦(focusing)的精密性。

为此，所述卡盘是一种利用真空的吸入力来对晶元进行吸附的半导体制造设备的真空卡盘，所述真空卡盘包括如下双重结构：主卡盘基底，其使得真空孔和真空解除孔相互具有一定间隔并连续设置，并通过外壁设置安放面；副卡盘基底，其为具有多个孔的多孔硅，安放于所述主卡盘基底的安放面。

如上所述的已申请发明的真空卡盘因为真空孔形成为通路的形态，所以仅在真空孔的垂直上方产生相当的吸入压力，从而使得对象物得到吸附的吸附面的整体真空度不均匀。

由此，所述整体吸附面的不均匀的真空度在对所吸附的对象物实施加工时所产生的微小冲击也会引起对象物的位置脱离，因此暴露出引起相当的作业不良的问题。

尤其，如上所述，吸附面的真空度不可能时，在单一的真空卡盘上应只安装单一的对象物，其在半导体或各种材料的加工过程中进行适用，虽然没有较大的牵强之处，但是在实验室中需要对多个对象物同时进行实验的情况下，会暴露难以适用的问题。

发明内容

本发明是为了解决所述问题而进行发明的。

对此，本发明的目的在于提供一种真空卡盘装置，其包括真空卡盘构成部和框架，所述真空卡盘构成部使得在腔室所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得用于实施作业或实验的对象物更加稳定地得到安装，所述框架用于使得所述真空卡盘构成部保持作业高度的状态下设置的同时，对用于驱动真空卡盘构成部的周边装置进行收纳，从而实现为单一的装置。

此外，本发明的另一个目的在于提供一种真空卡盘装置，在所述框架上图像采集装置(camera)设置于真空卡盘构成部的上部，所述图像采集装置用于观察对象物的作业或实验状况，所述图像采集装置能够使得拍摄位置及角度变化的同时对作业状况进行观察。

此外，本发明的又另一个目的在于提供一种真空卡盘装置，真空卡盘是由多孔的吸附部和基底相结合而形成的，所述基底包括用于生成吸入压力的腔室，使得在腔室所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得对象物更加稳定地得到安装。

为了实现所述目的，本发明具有如下构成。