[发明专利]分离膜的黏质抑制方法有效
| 申请号： | 201580070782.9 | 申请日： | 2015-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN107108277B | 公开（公告）日： | 2020-12-15 |
| 发明（设计）人： | 吉川浩;染谷新太郎;都司雅人;大森千晴 | 申请（专利权）人： | 奥加诺株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/44 | 分类号： | C02F1/44;B01D65/06;B01D65/08;B01D71/56;C02F1/50;C02F1/76 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分离 抑制 方法 | ||
1.一种分离膜的黏质抑制方法，所述方法包括使溴系氧化剂、或溴化合物与氯系氧化剂的反应物，和氨基磺酸化合物存在于含有三卤甲烷前体的供至具有分离膜的膜分离装置的给水或清洗水中，
其中所述给水或清洗水中的三卤甲烷前体的浓度，就三卤甲烷生成能而言为0.01mg/L以上，和
所述给水或清洗水还含有溴化物离子，所述给水或清洗水中的溴化物离子浓度为5mg/L以上，和
其中所述分离膜是作为聚酰胺系高分子膜的反渗透膜或纳滤膜。
2.一种分离膜的黏质抑制方法，所述方法包括使氨基磺酸化合物与溴系氧化剂进行反应的反应产物，或氨基磺酸化合物与溴化合物和氯系氧化剂的反应物进行反应的反应产物，存在于含有三卤甲烷前体的供至具有分离膜的膜分离装置的给水或清洗水中，
其中所述给水或清洗水中的三卤甲烷前体的浓度，就三卤甲烷生成能而言为0.01mg/L以上，和
所述给水或清洗水还含有溴化物离子，所述给水或清洗水中的溴化物离子浓度为5mg/L以上，和
其中所述分离膜是作为聚酰胺系高分子膜的反渗透膜或纳滤膜。
3.一种分离膜的黏质抑制方法，所述方法包括使溴与氨基磺酸化合物的混合物、或溴与氨基磺酸化合物的反应产物存在于含有三卤甲烷前体的供至具有分离膜的膜分离装置的给水或清洗水中，
其中所述给水或清洗水中的三卤甲烷前体的浓度，就三卤甲烷生成能而言为0.01mg/L以上，和
所述给水或清洗水还含有溴化物离子，所述给水或清洗水中的溴化物离子浓度为5mg/L以上，和
其中所述分离膜是作为聚酰胺系高分子膜的反渗透膜或纳滤膜。
4.根据权利要求3所述的分离膜的黏质抑制方法，其中所述溴与氨基磺酸化合物的反应产物通过包括以下步骤的方法获得：在惰性气体气氛下，将溴添加至包含水、碱和氨基磺酸化合物的混合液并使其反应。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的分离膜的黏质抑制方法，其中所述三卤甲烷前体包含腐殖质。
6.根据权利要求1～4中任一项所述的分离膜的黏质抑制方法，其中所述具有分离膜的膜分离装置是进行运转和运转休止的膜分离装置，在所述膜分离装置的运转休止中，
使溴系氧化剂、或溴化合物与氯系氧化剂的反应物存在，
使溴系氧化剂、或溴化合物与氯系氧化剂的反应物，和氨基磺酸化合物存在，
使氨基磺酸化合物与溴系氧化剂进行反应的反应产物，或氨基磺酸化合物与溴化合物和氯系氧化剂的反应物进行反应的反应产物存在，或者
使溴与氨基磺酸化合物的反应产物存在。
7.根据权利要求6所述的分离膜的黏质抑制方法，其中存在于所述膜分离装置内的水的pH为5.5以上。
8.根据权利要求1～4中任一项所述的分离膜的黏质抑制方法，其中存在于所述膜分离装置内的水为海水和盐水中的至少一种。
9.根据权利要求6所述的分离膜的黏质抑制方法，其中存在于所述膜分离装置内的水为海水和盐水中的至少一种。
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