[发明专利]分离膜的黏质抑制方法有效
申请号: | 201580070782.9 | 申请日: | 2015-12-18 |
公开(公告)号: | CN107108277B | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 吉川浩;染谷新太郎;都司雅人;大森千晴 | 申请(专利权)人: | 奥加诺株式会社 |
主分类号: | C02F1/44 | 分类号: | C02F1/44;B01D65/06;B01D65/08;B01D71/56;C02F1/50;C02F1/76 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 分离 抑制 方法 | ||
提供一种分离膜的黏质抑制方法,该方法在使用含有三卤甲烷前体的给水或清洗水的膜分离装置中,能够降低透过水中的三卤甲烷含量,同时具有充分的黏质抑制效果。所述分离膜的黏质抑制方法使溴系氧化剂、或溴化合物与氯系氧化剂的反应物;溴系氧化剂、或溴化合物与氯系氧化剂的反应物,和氨基磺酸化合物;或者氨基磺酸化合物与溴系氧化剂进行反应的反应产物,或氨基磺酸化合物与溴化合物和氯系氧化剂的反应物进行反应的反应产物,存在于含有三卤甲烷前体的供至具有分离膜的膜分离装置的给水或清洗水中。
技术领域
本发明涉及如反渗透膜(RO膜)等分离膜的黏质(slime)抑制方法。
背景技术
已知的反渗透膜(RO膜)等分离膜的黏质抑制方法包括使用各种黏质抑制剂的方法。次氯酸等氯系氧化剂是通常代表性的黏质抑制剂,并且为了抑制系统内的黏质的目的,这些抑制剂通常于分离膜的前段添加。由于氯系氧化剂劣化分离膜的可能性高,因此这些氯系氧化剂通常在即将接触分离膜之前还原分解,或者以使氯系氧化剂间歇地流入分离膜的方式来使用(参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开平9-057076号公报
发明内容
已知如果水中存在腐殖质等三卤甲烷前体,氯系氧化剂与这些前体反应并生成三氯甲烷等三卤甲烷。本发明的发明人的研究清楚地显示,这些由氯系氧化剂生成的三卤甲烷难以利用分离膜排除,容易泄漏到分离膜的透过水(permeate)中。
本发明的目的是提供一种在使用含有三卤甲烷前体的给水或清洗水的膜分离装置中的分离膜的黏质抑制方法,其中该方法能够降低透过水中的三卤甲烷含量,同时表现出令人满意的黏质抑制效果。
本发明提供了一种分离膜的黏质抑制方法,该方法包括使溴系氧化剂、或溴化合物与氯系氧化剂的反应物(由溴化合物和氯系氧化剂组成的反应组分)存在于含有三卤甲烷前体的供至具有分离膜的膜分离装置的给水或清洗水中。
本发明还提供了一种分离膜的黏质抑制方法,该方法包括使溴系氧化剂、或溴化合物与氯系氧化剂的反应物,和氨基磺酸化合物存在于含有三卤甲烷前体的供至具有分离膜的膜分离装置的给水或清洗水中。
本发明还提供了一种分离膜的黏质抑制方法,该方法包括使氨基磺酸化合物与溴系氧化剂进行反应的反应产物,或氨基磺酸化合物与溴化合物和氯系氧化剂的反应物进行反应的反应产物,存在于含有三卤甲烷前体的供至具有分离膜的膜分离装置的给水或清洗水中。
本发明还提供了一种分离膜的黏质抑制方法,该方法包括使溴与氨基磺酸化合物的混合物、或溴与氨基磺酸化合物的反应产物存在于含有三卤甲烷前体的供至具有分离膜的膜分离装置的给水或清洗水中。
在上述分离膜的黏质抑制方法中,溴与氨基磺酸化合物的反应产物优选通过包括以下步骤的方法获得:在惰性气体气氛下,将溴添加至包含水、碱和氨基磺酸化合物的混合液并使其反应。
在上述分离膜的黏质抑制方法中,给水或清洗水中的三卤甲烷前体的浓度,就三卤甲烷生成能(trihalomethane formation potential)而言优选为0.001mg/L以上。
在上述分离膜的黏质抑制方法中,分离膜优选为聚酰胺系高分子膜。
在上述分离膜的黏质抑制方法中,三卤甲烷前体优选包含腐殖质。
在上述分离膜的黏质抑制方法中,给水或清洗水优选还含有溴化物离子(bromideions)。
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