[发明专利]度量方法、计算机产品和系统

权利要求书

1.一种计量方法，包括：

根据目标的测量值来确定所述目标的结构不对称的类型；以及

执行所述目标的光学测量的模拟以确定与所述不对称类型相关联的不对称参数的值，

其中所述不对称参数包括使用所述目标的测量的由于所述不对称而导致的位置偏移。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述不对称参数包括比例因子，所述比例因子将使用所述目标的测量的由于所述不对称而导致的位置偏移与使用所述目标的测量的由于所述不对称而导致的依赖于工艺的比例因子偏移相关。

3.根据权利要求1至2中的任一项所述的方法，其中确定所述目标的结构不对称的类型包括：根据所述光学测量的参数来评估根据所述目标的测量确定的套刻的值、或者根据所述目标的测量确定的由于所述不对称而导致的依赖于工艺的比例因子偏移的值。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述光学测量的参数包括所述光学测量的测量光束的波长和/或偏振。

5.根据权利要求3所述的方法，其中评估确定的值包括确定以下两者之间的拟合：(i)所述确定的值，或者表示所述确定的值的构造，以及(ii)作为所述光学测量的参数的函数的所述套刻或依赖于工艺的比例因子偏移的值的一个或多个指纹集，或者表示所述值的指纹集的一个或多个指纹构造，每个指纹集或指纹构造表示不同类型的不对称。

6.根据权利要求1、2、4和5中的任一项所述的方法，还包括分析所述不对称参数对于与所述目标相关联的目标形成参数的变化的敏感度。

7.根据权利要求6所述的方法，其中分析所述敏感度包括针对所述不对称参数对于所述目标形成参数的变化的敏感度的最小值而确定所述光学测量的参数的值。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述光学测量的参数包括所述光学测量的测量光束的波长和/或偏振。

9.根据权利要求6所述的方法，其中所述分析包括执行模拟。

10.根据权利要求1、2、4、5、7至9中的任一项所述的方法，其中所述目标包括覆盖的周期性结构。

11.根据权利要求10所述的方法，其中执行模拟包括执行针对指定的不对称被设置为零的横向移位的覆盖的周期性结构的光学测量的模拟。

12.根据权利要求1、2、4、5、7至9、11中的任一项所述的方法，还包括根据所述模拟来确定使用所述目标的测量的由于所述不对称而导致的依赖于工艺的比例因子偏移的值以及使用所述目标的测量的由于所述不对称而导致的位置偏移的值。

13.根据权利要求1、2、4、5、7至9、11中的任一项所述的方法，还包括基于所述不对称参数来校正根据所述目标的测量确定的所述目标的套刻或对准值。

14.一种计量方法，包括：

执行目标的光学测量的模拟以确定与根据所述目标的测量值确定的所述目标的结构不对称的类型相关联的不对称参数的值；以及

分析所述不对称参数对于与所述目标相关联的目标形成参数的变化的敏感度。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述不对称参数包括比例因子，所述比例因子将使用所述目标的测量的由于所述不对称而导致的位置偏移与使用所述目标的测量的由于所述不对称而导致的依赖于工艺的比例因子偏移相关。

16.根据权利要求14或15所述的方法，还包括针对所述不对称参数对于所述目标形成参数的变化的敏感度的最小值而确定所述光学测量的参数的值。