[发明专利]太阳能电池的制造方法

说明书

本发明的目的在于，提供一种能够低制造成本、不对基板造成损伤且高生产效率地成膜膜质良好的钝化膜的太阳能电池的制造方法。而且，在本发明中，制作P型硅基板(4)，将包含铝的溶液雾化，在非真空下将雾化后的溶液对P型硅基板(4)的背面进行喷雾，由此将由氧化铝膜构成的背面钝化膜(5)成膜在P型硅基板(4)的背面上。此后，执行对P型硅基板(4)以及背面钝化膜(5)的界面照射紫外光(21)的光照射处理。

技术领域

本发明涉及太阳能电池的制造方法，特别是涉及形成在硅基板上的钝化膜的成膜方法。

背景技术

在晶体硅太阳能电池的领域中，以降低硅使用量以及提高硅基板中的变换效率为目的，正在发展硅基板的薄型化。然而，随着硅基板的薄型化进展，变换效率的下降变得显著。这是因为，例如，存在于具有导电性的硅基板的表面的许多的缺陷成为主要的原因，致使通过光照射而产生的少数载流子(在P型的情况下是电子)的寿命(life time)减少。即，降低该少数载流子的消失与提高太阳能电池的变换效率关联。

为了抑制载流子的寿命降低，一般来说，在硅基板的表面上成膜钝化膜。在各种钝化膜之中，尤以对P型硅基板具有高钝化效果(对寿命降低的抑制功能)的氧化铝膜令人关注。

已知，氧化铝膜在膜中具有负的固定电荷，通过由该固定电荷产生的场效应而产生钝化效果。即，通过在P型硅基板的表面上形成由具有负的固定电荷的氧化铝膜构成的钝化膜，从而抑制作为少数载流子的电子向基板的表面的扩散，结果，能够防止载流子的消失。

此外，例如，作为专利文献1的太阳能电池的制造方法，公开了如下方法，即，作为对P型硅基板成膜作为钝化膜的氧化铝膜的方法而采用了喷雾法(mist method)。该制造方法通过利用喷雾法对钝化膜进行成膜，从而取得如下低制造成本、不对硅基板造成损伤且高生产效率地成膜钝化膜这样的效果。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2015/004767号小册子

发明内容

发明要解决的课题

然而，在用喷雾法对钝化膜进行成膜的情况下，与用ALD(Atomic LayerDeposition，原子层沉积)法、等离子体CVD(Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积)法等对钝化膜进行成膜的情况相比较，存在膜质有可能变差的问题。

本发明的目的在于，解决上述那样的问题，提供一种能够低制造成本、不对基板造成损伤并且高生产效率地对膜质良好的钝化膜进行成膜的太阳能电池的制造方法。

用于解决课题的技术方案

本发明中的太阳能电池的制造方法具备：(a)制作具有一个主面以及另一个主面的硅基板4的步骤；(b)将包含金属元素的溶液14雾化的步骤；(c)通过在非真空下将所述雾化后的所述溶液对所述硅基板的一个主面进行喷雾，从而将由金属氧化膜构成的钝化膜5成膜在所述硅基板的一个主面上的步骤；(d)使用形成了所述钝化膜的所述硅基板来制作太阳能电池构造的步骤；以及(e)进行对所述钝化膜与所述硅基板的界面照射给定的光21的光照射处理的步骤。

发明效果

本发明中的太阳能电池的制造方法通过执行步骤(b)、(c)而将由金属氧化膜构成的钝化膜成膜在硅基板的一个主面上，从而能够低制造成本、不对硅基板造成损伤且高生产效率地成膜钝化膜。

进而，根据方案1所述的本申请发明，能够通过基于步骤(e)的光照射处理，从而得到提高了寿命的优质的钝化膜。

通过以下的详细的说明和附图，本发明的目的、特征、方式、以及优点将变得更清楚。

附图说明