[发明专利]激光装置

说明书

技术领域

本公开涉及激光装置。

背景技术

激光退火装置是向成膜于基板上的非晶硅膜照射脉冲激光使其改性为多晶硅(ポリシリコン)膜的装置，其中，该脉冲激光是从准分子激光器等激光系统输出的，具有紫外线区域的波长。通过将非晶硅膜改性为多晶硅膜，能够制作TFT(薄膜晶体管)。该TFT用于比较大型的液晶显示器中。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009－277977号公报

专利文献2：美国专利第8803027号说明书

专利文献3：日本专利第4818871号公报

专利文献4：日本专利第5376908号公报

发明内容

本公开的一个方面的激光装置可以具有：振荡器，其输出激光，包括第1激光腔室、光谐振器和配置在第1激光腔室中的第1放电电极对；第1放大器，其对激光进行放大并输出，包括配置在从振荡器输出的激光的光路上的第2激光腔室、和以第1间隙间隔配置于第2激光腔室中的第2放电电极对；以及第1光束调节光学系统，其配置在振荡器和第1放大器之间的光路上，调节从振荡器输出的激光，以使得入射到第1放大器的激光沿第2放电电极对的放电方向上的光束宽度与第2放电电极对的第1间隙间隔大致相同。

本公开的一个方面的激光装置可以具有：振荡器，其输出激光，包括第1激光腔室、光谐振器和配置在第1激光腔室中的第1放电电极对；第1放大器，其对激光进行放大并输出，包括配置在从振荡器输出的激光的光路上的第2激光腔室、和配置于第2激光腔室中的第2放电电极对；以及第1光束调节光学系统，其配置在振荡器和第1放大器之间的光路上，调节从振荡器输出的激光，包括正光焦度的第1光学元件、和相比第1光学元件靠激光的下游侧配置的正或负光焦度的第2光学元件。

本公开的一个方面的激光装置可以具有：振荡器，其输出激光，包括第1激光腔室、光谐振器和配置在第1激光腔室中的第1放电电极对；第1放大器，其对激光进行放大并输出，包括配置在从振荡器输出的激光的光路上的第2激光腔室、和配置于第2激光腔室中的第2放电电极对；以及第1光束调节光学系统，其是配置在振荡器和第1放大器之间的光路上的双远心光学系统。

附图说明

下面参照附图对本公开的几个实施方式仅作为示例进行说明。

图1A概略性示出比较例的激光装置的结构。

图1B是从与放电电极对之间的放电方向平行的方向观察图1A所示的放大器PA而得到的图。

图2A示出沿图1A的IIA线的光束截面的光束轮廓。

图2B示出沿图1A的IIB线的光束截面的光束轮廓。

图2C示出沿图1A的IIC线的光束截面的光束轮廓。

图3A概略性示出本公开的第1实施方式的激光装置的结构。

图3B概略性示出本公开的第1实施方式的激光装置的结构。

图4A示出沿图3A的IVA线的光束截面的光束轮廓。

图4B示出沿图3A的IVB线的光束截面的光束轮廓。

图4C示出沿图3A的IVC线的光束截面的光束轮廓。

图5A是从V方向观察作为图3A所示的光束调节光学系统的第1例的光束调节光学系统40a而得到的图。

图5B是从H方向观察光束调节光学系统40a而得到的图。

图6A是从V方向观察作为图3A所示的光束调节光学系统的第2例的光束调节光学系统40b而得到的图。

图6B是从H方向观察光束调节光学系统40b而得到的图。

图7A是从V方向观察作为图3A所示的光束调节光学系统的第3例的光束调节光学系统40c而得到的图。

图7B是从H方向观察光束调节光学系统40c而得到的图。

图8A是从V方向观察作为图3A所示的光束调节光学系统的第4例的光束调节光学系统40d而得到的图。

图8B是从H方向观察光束调节光学系统40d而得到的图。

图9A是从V方向观察作为图3A所示的光束调节光学系统的第5例的光束调节光学系统40e而得到的图。

图9B是从H方向观察光束调节光学系统40e而得到的图。

图10A概略性示出本公开的第2实施方式的激光装置的结构。

图10B概略性示出本公开的第2实施方式的激光装置的结构。

图11A示出沿10A的XIA线的光束截面的光束轮廓。

图11B示出沿10A的XIB线的光束截面的光束轮廓。