[发明专利]曝光数据生成方法、多层立体结构的制造方法、曝光数据生成装置、计算机可读存储介质及多层立体结构的制造系统

说明书

本发明涉及多层立体结构的制造，提供能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度且能够抑制曝光位置的位置偏移导致的凹凸面的形状变化的技术。在本发明中，通过对在各层重复进行抗蚀剂层的形成与对该抗蚀剂层进行选择性的曝光而生成的抗蚀剂层叠体进行显影，来制造多层立体结构。因此，根据对于各抗蚀剂层的各曝光图案，能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度。另外，在本发明中，曝光数据的曝光区域由凸面区域、凹面区域以及凹面周围区域构成。因此，即使在两层偏移的情况下，也能在对某两个抗蚀剂层进行曝光时，抑制在多层立体结构的凹凸面产生意料之外的台阶差。

技术领域

本发明涉及通过按照曝光数据进行曝光来制造多层立体结构的技术。

背景技术

以往，已知选择性地曝光层叠的抗蚀剂后通过显影除去抗蚀剂层叠体中的显影可溶区域，制造在一侧具有凹凸面的多层立体结构的技术。

作为在一侧具有凹凸面的多层立体结构的制造方法，例如，已知如下技术：在抗蚀剂层叠体的一侧的主面部分形成用于耐蚀刻液的抗蚀覆膜后，对无覆膜的部位进行湿蚀刻。然而，当如此地通过湿蚀刻形成凹凸面时，难以分别调整凹凸面中的各凹部的深度。

在专利文献1记载的技术中，在层叠有多层抗蚀剂成分不同的抗蚀剂层后，将多束波长不同的曝光用光照射到抗蚀剂层叠体上，选择性地曝光抗蚀剂层叠体。接着，通过显影除去抗蚀剂层叠体中的显影可溶区域，制造多层立体结构。在该技术中，能够制造已分别调整了凹凸面中的各凹部的深度的多层立体结构。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-208350号公报。

发明内容

发明所要解决的课题

然而，如专利文献1那样，当在各层中抗蚀剂的成分不同时，需要设置多个用于涂布各成分不同的抗蚀剂的涂布装置。另外，如专利文献1那样，当对各抗蚀剂层照射多束波长不同的曝光用光时，需要设置多个用于照射各波长不同的曝光用光的曝光装置。因此，从制造多层立体结构的制造处理的容易性、制造成本的观点出发，并不优选。

另外，对于抗蚀剂层，曝光位置完全不产生位置偏移的情况很少，通常略微产生位置偏移。在这种情况下，在专利文献1记载的技术中，曝光各抗蚀剂层时的位置偏移导致所制造的多层立体结构具有与所期望的形状不同的凹凸面。因此，在曝光各抗蚀剂层时，即使在产生上述位置偏移的情况下，也需求能够制造具有所期望的凹凸面的多层立体结构的技术。

本发明是鉴于上述问题提出的，涉及多层立体结构的制造，其目的在于提供能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度且能够抑制曝光位置的位置偏移所导致的凹凸面的形状变化的技术。

解决课题的技术手段

本发明的第一方式的曝光数据生成方法，在对抗蚀剂层叠体进行显影来制造多层立体结构之前，生成多个曝光数据，所述抗蚀剂层叠体是对在各层重复进行抗蚀剂层的形成以及对所述抗蚀剂层的曝光而生成的层叠体，其特征在于，具备：分割图案生成工序，基于表示在一侧具有凹凸面的所述多层立体结构的设计数据，生成表示在深度方向按所述各层将所述多层立体结构分割时的各图案的多个分割图案；以及数据生成工序，对于所述多个分割图案，将在所述一侧包括凸面的凸面区域、在所述一侧包括凹面的凹面区域以及位于所述凹面区域的周围的凹面周围区域设定为曝光区域，并生成多个曝光数据。