[发明专利]用于辐射检测器的防散射栅格

权利要求书

1.一种防散射栅格，包括：

多个栅格壁，被配置成提供均匀的散射辐射-主辐射比；

所述散射辐射-主辐射比包括所述多个栅格壁中两个相邻栅格壁之间的空间的宽度与所述多个栅格壁中两个相邻栅格壁中任一栅格壁的高度之比。

2.根据权利要求1所述的防散射栅格，其中，

所述多个栅格壁中两个相邻栅格壁之间的空间是均匀的。

3.根据权利要求1所述的防散射栅格，所述多个栅格壁中的栅格壁具有至少一个下列参数：所述多个栅格壁中栅格壁的厚度、高度、形状或位置、或者所述多个栅格壁中两个相邻栅格壁之间的空间。

4.根据权利要求3所述的防散射栅格，所述多个栅格壁中栅格壁的形状包括纵截面上的矩形、梯形、T形或不规则形状。

5.根据权利要求4所述的防散射栅格，所述多个栅格壁中的至少一个具有矩形形状，所述多个栅格壁中的至少一个具有T形形状。

6.根据权利要求4所述的防散射栅格，所述T形栅格壁包括第一部分和第二部分，所述第一部分具有第一厚度和第一高度，所述第二部分具有第二厚度和第二高度。

7.根据权利要求6所述的防散射栅格，所述第一厚度不小于所述第二厚度。

8.根据权利要求6所述的防散射栅格，所述第一高度不大于所述第二高度。

9.根据权利要求1所述的防散射栅格，所述防散射栅格是平行的或聚焦的。

10.一种检测器，包括：

至少一个光电传感器、至少一个闪烁体和至少一个防散射栅格；

其中，所述防散射栅格包括被配置为提供均匀的散射辐射-主辐射比的多个栅格壁；所述散射辐射-主辐射比包括所述多个栅格壁中两个相邻栅格壁之间的空间的宽度与所述多个栅格壁中两个相邻栅格壁中任一栅格壁的高度之比。

11.根据权利要求10所述的检测器，所述检测器还包括衬底或芯片。

12.根据权利要求11所述的检测器，所述衬底或所述芯片被所述光电传感器覆盖，所述光电传感器被所述闪烁体覆盖，并且所述闪烁体被所述防散射栅格覆盖。

13.根据权利要求11所述的检测器，包括在所述衬底上的多个光电传感器，所述多个光电传感器具有相同的尺寸并且以规则的方式布置。

14.根据权利要求12所述的检测器，所述闪烁体以一一对应的方式覆盖所述光电传感器。

15.根据权利要求14所述的检测器，所述衬底上的闪烁体具有与其对应的光电传感器相同的尺寸并且与其对应的光电传感器同时左右对准。

16.根据权利要求14所述的检测器，所述衬底边缘附近的闪烁体不小于其对应的光电传感器，并且与其对应的光电传感器左对准或右对准。

17.根据权利要求10所述的检测器，所述多个栅格壁中的栅格壁具有至少一个下列参数：所述栅格壁的厚度、高度、形状或位置或所述多个栅格壁中两个相邻栅格壁之间的空间的宽度。

18.根据权利要求17所述的检测器，所述多个栅格壁中的栅格壁位于两个相邻的闪烁体之间的间隙处。

19.根据权利要求17或18所述的检测器，所述多个栅格壁中栅格壁的中心线偏离两个相邻的闪烁体之间的间隙的中心线。