[发明专利]用于辐射检测器的防散射栅格

说明书

提供了一种防散射栅格、一种具有这种防散射栅格的检测器和一种包括这种具有防散射栅格的检测器的辐射成像系统。防散射栅格包括至少一个栅格壁。栅格壁的参数可以被调整以达到均匀的散射辐射‑主辐射比。栅格壁的参数包括栅格壁的厚度、高度、形状或位置，或两个栅格壁间空间的宽度。检测器包括这种防散射栅格、至少一个光电传感器和至少一个闪烁体。辐射系统包括辐射发生器、具有这种防散射栅格的辐射检测器，和处理器。

技术领域

本公开总体涉及一种辐射成像系统，更具体地，涉及一种用于检测器的防散射栅格以及一种包括这种检测器的辐射成像系统。

背景技术

辐射成像系统(或“放射成像系统”)可应用于多个领域，例如医学诊断和治疗，工业生产和应用，科学实验和研究，国家安全等。一般地，辐射成像技术是一种可允许利用辐射对对象的内部进行非侵入式观察的技术。如本文所使用的，辐射可包括粒子射线(例如中子、原子、电子、μ-介子、重离子等)、光子射线(例如X射线、γ射线,α射线,β射线、紫外线、激光等)，或类似物，或它们的任何组合。辐射成像系统采集的信息可包括例如结构、密度或者损伤等，不会对对象造成损伤。此处使用的术语“对象”可包括物质、组织、器官、物体、样本、身体，或类似物，或者它们的任何组合。医疗领域示例性的辐射成像系统可包括X射线成像系统，例如计算机断层扫描(CT)系统和数字放射成像(DR)系统，或者一些结合CT或者DR系统的多模成像系统。基于对象不同部分吸收性，反射性和传输性的不同，X射线成像能够生成具有一定对比度的图像。以直线穿过对象的辐射(称为“主辐射”)可以导致图像生成。辐射和对象的相互作用产生的散射辐射可能会干扰主辐射。散射辐射可能会影响，例如，生成图像的对比度-噪声比。因此，有效和低成本地抑制或降低辐射成像系统中的散射辐射是一个巨大的挑战。

发明内容

在本公开的一个方面，提供一种防散射栅格。在一些实施例中，防散射栅格可包括多个栅格壁，多个栅格壁可被配置为达到均匀的散射辐射-主辐射比。

在本公开的另一个方面，提供一种探测器。在一些实施例中，探测器可包括至少一个光电传感器、至少一个闪烁体和至少一个防散射栅格。在一些实施例中，防散射栅格可包括多个被配置为提供均匀的散射辐射-主辐射比的栅格壁。

在本公开的又一个方面，提供一种辐射成像系统。在一些实施例中，辐射成像系统可包括发生器、探测器和处理器。发生器可被配置为产生辐射，探测器可被配置为探测辐射，处理器可被配置为处理辐射图像。在一些实施例中，探测器可包括至少一个光电传感器、至少一个闪烁体和至少一个防散射栅格。在一些实施例中，防散射栅格可包括多个被配置为提供均匀的散射主辐射比的栅格壁。

在一些实施例中，辐射系统可进一步包括显示设备。

在一些实施例中，多个栅格壁中的栅格壁可具有以下参数，包括栅格壁的厚度、高度、形状、位置，多个栅格壁中相邻两个栅格壁的空间宽度，或类似物，或者它们的任何组合。

在一些实施例中，探测器可进一步包括衬底。在一些实施例中，衬底可以是芯片。

在一些实施例中，衬底可被光电传感器覆盖，光电传感器可被闪烁体覆盖，闪烁体可被防散射栅格覆盖。

在一些实施例中，相同衬底上的光电传感器可具有相同的尺寸，并以有规律的方式排列。

在一些实施例中，闪烁体可覆盖光电传感器或与光电传感器对应。

在一些实施例中，衬底上的闪烁体具有与相应的光电传感器相同的大小，并且与相应的光电传感器对齐。

在一些实施例中，临近衬底边缘的闪烁体可不少于相应的光电传感器，并与相应的光电传感器左对齐或右对齐。

在一些实施例中，多个栅格壁中的栅格壁可位于相邻两个闪烁体之间的间隙中。

在一些实施例中，多个栅格壁中栅格壁的中线可偏离相邻两个闪烁体之间的间隙的中线。