[发明专利]保护电路及保护电路系统有效
申请号: | 201580079394.7 | 申请日: | 2015-04-30 |
公开(公告)号: | CN107534015B | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 酒井伸次;小田寿志 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L21/822 | 分类号: | H01L21/822;H01L27/04;H02H9/02 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保护 电路 系统 | ||
本技术涉及能够对主电流的损耗进行抑制,并对与感测区域的确保相伴的制造成本的增加进行抑制的MOSFET的保护电路及具有该保护电路的保护电路系统。保护电路具有:电力用的第一MOSFET(1),主电流流过该第一MOSFET;IGBT(5),其与第一MOSFET并联连接,且来自主电流的分流流过该IGBT;检测用电阻(6),其与IGBT串联连接;以及第一控制电路(4),其基于施加至检测用电阻的电压值,对第一MOSFET的栅极电压进行控制,流过IGBT的分流的电流值相对于流过第一MOSFET的主电流的电流值之比大于或等于0.018%而小于或等于0.022%。
技术领域
本技术涉及功率MOSFET的保护电路及具有该保护电路的保护电路系统。
背景技术
在现有的功率模块中通常内置有过电流保护功能,但作为其方式,主要使用分流电阻方式或者感测方式。
另外,近年来,为了减小稳态损耗,进行了如下尝试,即,使用高耐压功率用的金属-氧化物-半导体场效应晶体管(metal-oxide-semiconductor field-effecttransistor;MOSFET),降低低电流动作时的损耗(例如,参照专利文献1)。
专利文献1:日本特开2012-186899号公报
发明内容
在这里,MOSFET与绝缘栅型双极晶体管(insulated gate bipolar transistor,即IGBT)相比较,高电流密度下的通电能力低,gm特性减少。因此,在为了进行过电流保护而使用了分流电阻方式的情况下,由于由分流电阻引起的栅极电压的上升,会导致接通电压增加,饱和电流降低。
另外,在分流电阻方式中,成为将电阻插入至主电流路径的结构,因此电力损耗较大。另外,存在下述问题,即,为了提高所插入的电阻的耐量,需要采用水泥电阻等外形较大的电阻。
另一方面,在为了MOSFET的过电流保护而使用感测方式的情况下,由于MOSFET的饱和电流低于IGBT的饱和电流,因此需要确保浪涌耐量。因此,需要将功率MOSFET的有效区域内的较大的面积确保作为感测区域。因此,制造所耗费的成本的抑制及模块的小型化是困难的。特别是在SiC MOSFET等使用高价的基板材料的情况下,预见到由芯片面积的增大引起的制造成本的显著的增加。
另外,在增大感测电阻本身的情况下,存在下述问题,即,容易拾取到相对于感测电流的噪声,用于将该噪声去除的滤波器大型化,另外,过电流检测频度增加。
本技术就是为了解决上述这样的问题而提出的,涉及能够对主电流的损耗进行抑制,并对与感测区域的确保相伴的制造成本的增加进行抑制的MOSFET的保护电路及具有该保护电路的保护电路系统。
与本技术的一个方式相关的保护电路,具有:电力用的第一MOSFET,主电流流过该第一MOSFET;IGBT,其与所述第一MOSFET并联连接,且来自所述主电流的分流流过该IGBT;检测用电阻,其与所述IGBT串联连接;以及第一控制电路,其基于施加至所述检测用电阻的电压值,对所述第一MOSFET的栅极电压进行控制,流过所述IGBT的所述分流的电流值相对于流过所述第一MOSFET的所述主电流的电流值之比大于或等于0.018%而小于或等于0.022%。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造