[发明专利]太阳能电池单元及太阳能电池单元的制造方法在审

专利信息
申请号: 201580081082.X 申请日: 2015-07-02
公开(公告)号: CN107750399A 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 森川浩昭;滨笃郎;幸畑隼人;过能慎太郎 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L31/0687 分类号: H01L31/0687;H01L31/0352;H01L31/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 贾成功
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 单元 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种太阳能电池单元,其特征在于,具备:

n型硅基板;

p型杂质扩散层,其形成于所述n型硅基板的一面侧、含有p型的杂质元素;

n型杂质扩散层,其具有n型的杂质元素以第1浓度扩散的第1n型杂质扩散层和n型的杂质元素以比所述第1浓度低的第2浓度扩散的第2n型杂质扩散层、形成于所述n型硅基板的另一面侧、且以比所述n型硅基板高的浓度含有n型的杂质元素;

p型杂质扩散层上电极,其形成于所述p型杂质扩散层上;和

n型杂质扩散层上电极,其形成于所述第1n型杂质扩散层上,

所述第1n型杂质扩散层的表面的所述n型的杂质元素的浓度为5×1020atoms/cm3以上且2×1021atoms/cm3以下,所述第2n型杂质扩散层的表面的所述n型的杂质元素的浓度为5×1019atoms/cm3以上且2×1020atoms/cm3以下。

2.根据权利要求1所述的太阳能电池单元,其特征在于,

所述第1n型杂质扩散层的薄层电阻为20Ω/sq.以上且80Ω/sq.以下,所述第2n型杂质扩散层的薄层电阻比150Ω/sq.大。

3.根据权利要求1或2所述的太阳能电池单元,其特征在于,

所述n型硅基板的外形形状是一边的长度为156mm以上且158mm以下的正方形形状,

所述第1n型杂质扩散层具有100根以上且300根以下的根数的宽度为50μm以上且150μm以下的长尺寸细长的栅电极形成区域,

所述n型杂质扩散层上电极在所述栅电极形成区域的区域内具有100根以上且300根以下的根数的长尺寸细长的n型杂质扩散层上栅电极。

4.根据权利要求1所述的太阳能电池单元,其特征在于,

所述n型的杂质元素为磷。

5.一种太阳能电池单元的制造方法,其特征在于,包括:

第1工序,在n型硅基板的一面侧形成含有p型的杂质元素的p型杂质扩散层;

第2工序,将含有n型杂质元素的含n型掺杂剂糊涂布于所述n型硅基板的另一面侧;

第3工序,在处理室内对所述n型硅基板实施不含有n型的杂质元素的气体的气氛下的第1热处理,使n型的杂质元素从所述含n型掺杂剂糊扩散到所述n型硅基板中的所述含n型掺杂剂糊的下部区域,由此在所述n型硅基板的所述含n型掺杂剂糊的下部区域形成n型的杂质元素以第1浓度被扩散的第1n型杂质扩散层;

第4工序,在所述处理室内对所述n型硅基板实施含有n型的杂质元素的含掺杂剂气体的气氛下的第2热处理,使n型的杂质元素从所述含掺杂剂气体扩散到所述n型硅基板的另一面侧的未涂布所述含n型掺杂剂糊的未涂布区域,由此在所述未涂布区域形成n型的杂质元素以比所述第1浓度低的第2浓度被扩散的第2n型杂质扩散层;

第5工序,去除所述含n型掺杂剂糊;

第6工序,在所述p型杂质扩散层上形成p型杂质扩散层上电极;和

第7工序,在所述第1n型杂质扩散层上形成n型杂质扩散层上电极。

6.根据权利要求5所述的太阳能电池单元的制造方法,其特征在于,

将所述第4工序后的、所述第1n型杂质扩散层的表面的所述n型的杂质元素的浓度设为5×1020atoms/cm3以上且2×1021atoms/cm3以下,将所述第2n型杂质扩散层的表面的所述n型的杂质元素的浓度设为5×1019atoms/cm3以上且2×1020atoms/cm3以下。

7.根据权利要求5或6所述的太阳能电池单元的制造方法,其特征在于,

所述第4工序后的、所述第1n型杂质扩散层的薄层电阻为20Ω/sq.以上且80Ω/sq.以下,所述第2n型杂质扩散层的薄层电阻比150Ω/sq.大。

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