[发明专利]激光系统

说明书

该激光系统具备：第1激光装置；第2激光装置；公共的充电电压测量部，其测量向第1充电电容器充电的充电电压及向第2充电电容器充电的充电电压；至少一个泄放电路，它们使向第1充电电容器充电的充电电压及向第2充电电容器充电的充电电压分别降低；及泄放电路控制部，其根据由充电电压测量部测量的电压来控制至少一个泄放电路。

技术领域

本公开涉及激光系统。

背景技术

激光退火装置是向在基板上成膜的非晶(非晶化)硅膜照射从准分子激光等的激光系统输出的具有紫外线区域的波长的脉冲激光而改性为多晶硅膜的装置。通过将非晶硅膜改性为多晶硅膜，能够制作TFT(薄膜晶体管)。该TFT使用于比较大的液晶显示器。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-342964号公报

专利文献2：美国专利第8238400号说明书

专利文献3：美国专利第6865210号说明书

发明内容

本公开的一个观点的激光系统，具备：第1激光装置，其包括：第1激光腔；配置于第1激光腔内的第1一对电极；第1脉冲产生器，其包括第1充电电容器，并利用蓄积于第1充电电容器的电能而生成脉冲电压，将该脉冲电压施加到第1一对电极；及第1充电器，其向第1充电电容器供给电能而进行充电；第2激光装置，其包括：第2激光腔；配置于第2激光腔内的第2一对电极；第2脉冲产生器，其包括第2充电电容器，并利用蓄积于第2充电电容器的电能而生成脉冲电压，将该脉冲电压施加到第2一对电极；及第2充电器，其向第2充电电容器供给电能而进行充电；公共的充电电压测量部，其对向第1充电电容器充电的充电电压及向第2充电电容器充电的充电电压进行测量；至少一个泄放电路，其使向第1充电电容器充电的充电电压及向第2充电电容器充电的充电电压分别降低；及泄放电路控制部，其根据由充电电压测量部测量的电压来控制至少一个泄放电路。

本公开的另一个观点的激光系统，具备：第1激光装置，其包括：第1激光腔；配置于第1激光腔内的第1一对电极；第1脉冲产生器，其包括第1充电电容器，并利用蓄积于第1充电电容器的电能而生成脉冲电压，将该脉冲电压施加到第1一对电极；及第1充电器，其向第1充电电容器供给电能而进行充电；第2激光装置，其包括：第2激光腔；配置于第2激光腔内的第2一对电极；第2脉冲产生器，其包括第2充电电容器，并利用蓄积于第2充电电容器的电能而生成脉冲电压，将该脉冲电压施加到第2一对电极；及第2充电器，其向第2充电电容器供给电能而进行充电；公共的充电电压测量部，其对向第1充电电容器充电的充电电压及向第2充电电容器充电的充电电压进行测量；及同步控制部，其根据向第1充电电容器充电的充电电压来控制将由第1脉冲产生器产生的脉冲电压施加到第1一对电极的施加时机，根据向第2充电电容器充电的充电电压来控制将由第2脉冲产生器产生的脉冲电压施加到第2一对电极的施加时机。

附图说明

下面，参照附图，将本公开的几个实施方式作为简单的例子而进行说明。

图1概略性地表示比较例的包括激光系统的激光退火装置的结构。

图2表示图1所示的激光系统的结构例。

图3是图1所示的激光系统中的时序图。

图4是表示第n触发校正部中的具体校正方法的时序图。

图5是表示图1所示的激光系统控制部的处理的流程图。

图6是表示图2所示的激光控制部的处理的流程图。

图7是表示图2所示的第n触发校正部的处理的流程图。

图8概略性地表示本公开的第1实施方式的激光系统的结构。