[其他]研磨垫有效
| 申请号： | 201590000989.4 | 申请日： | 2015-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN206717685U | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 向史博;田浦歳和;高木大辅;铃木真二 | 申请（专利权）人： | 阪东化学株式会社 |
| 主分类号： | B24D11/00 | 分类号： | B24D11/00;B24D3/00;B24D3/28 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司11205 | 代理人： | 杨贝贝,臧建明 |
| 地址： | 日本兵库县神户市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【权利要求书】：
1.一种研磨垫，其是具有基材、及层叠于其表面侧的研磨层的研磨垫，所述研磨垫的特征在于：
所述研磨层具有树脂制的粘合剂及分散于所述粘合剂中的研磨粒，
所述研磨粒的平均粒径为2μm以上且45μm以下，
所述粘合剂的D型硬度计硬度为60以上且88以下，
所述研磨层在表面具有多个凸状部，
所述凸状部的平均面积为0.5mm2以上且13mm2以下，
所述多个凸状部相对于所述研磨层整体的面积占有率为5％以上且40％以下。
2.根据权利要求1所述的研磨垫，其中所述研磨粒为金刚石研磨粒。
3.根据权利要求1或2所述的研磨垫，其中所述多个凸状部有规则地排列。
4.根据权利要求1或2所述的研磨垫，其中在所述基材的背面侧具有接着层。
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