[发明专利]三氧化钼微纳阵列材料的制备方法

权利要求书

1.三氧化钼微纳阵列材料的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）将四水合钼酸铵[(NH₄)₆Mo₇O₂₄.4H₂O]溶解于去离子水中，制得钼酸铵溶液；

2）在不断搅拌的情况下在钼酸铵溶液中滴加浓硝酸，得到含硝酸的混合溶液；

3）取干净玻璃片裁成边长为1.5cm的正方形后清洗干净，将洗净的玻璃片与烧杯内壁 呈45^o角浸放于上述含硝酸的混合溶液中；

4）将浸有玻璃片的含硝酸的混合溶液在一定温度下反应一定时间后，自然冷却至室 温；

5）取出玻璃片，表面得到白色附着产物，利用去离子水反复冲洗后烘干，即得到三氧化 钼（MoO₃）微纳阵列材料。

2.根据权利要求1所述的三氧化钼微纳阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤1）所述 钼酸铵溶液的浓度为0.01~0.1mol/L。

3.根据权利要求1所述的三氧化钼微纳阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤2）所述 混合液中硝酸浓度为0.1~1mol/L。

4.根据权利要求1所述的三氧化钼微纳阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤4）所述 反应温度为80~140℃，反应时间为2~6h。

5.根据权利要求1所述的三氧化钼微纳阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤5）所述 烘干温度为60℃，烘干时间为24h。