[发明专利]放射线成像装置、其制造方法和放射线检查装置在审
申请号: | 201610004925.2 | 申请日: | 2016-01-05 |
公开(公告)号: | CN105785420A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
发明(设计)人: | 市村知昭 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G01T1/20 | 分类号: | G01T1/20;G01T1/164;G01T1/202 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 袁玥 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 放射线 成像 装置 制造 方法 检查 | ||
1.一种放射线成像装置,其特征在于包括:
传感器面板,其上排列多个传感器;
闪烁体,被布置在基底部件的上方并由碱卤化物制成;以及
保护膜,被配置为抑制所述闪烁体的潮解,
其中,所述保护膜包括:
第一部分,覆盖所述闪烁体的侧面和所述闪烁体的在与所述基底 部件相对的一侧上的端部,以及
第二部分,其在氟含量上小于第一部分,并覆盖第一部分的表面 的至少一部分。
2.根据权利要求1所述的放射线成像装置,其特征在于,
所述闪烁体由多个柱状晶体制成,
第一部分覆盖所述闪烁体的各个柱状晶体的侧面和尖端,
所述保护膜由作为氟基树脂的第一树脂和不作为氟基树脂的第二 树脂制成,以及
在第二部分处的第一树脂与第二树脂的比例小于在第一部分处的 第一树脂与第二树脂的比例。
3.根据权利要求2所述的放射线成像装置,其特征在于,形成由 第一树脂制成的膜以覆盖所述闪烁体的各个柱状晶体的侧面和尖端, 并且形成至少包含第二树脂的部件以覆盖所述闪烁体,同时填充覆盖 有第一树脂的柱状晶体之间的间隙。
4.根据权利要求2所述的放射线成像装置,其特征在于,第一树 脂包含选自由以下项构成的组中的至少一个材料:聚四氟乙烯、聚三 氟氯乙烯、四氟乙烯/六氟丙烯共聚物、聚偏二氟乙烯、氟化甲基丙烯 酸酯聚合物、聚氟乙烯、乙烯-四氟乙烯共聚物和乙烯-三氟氯乙烯共 聚物。
5.根据权利要求2所述的放射线成像装置,其特征在于,第二树 脂包含选自以下项构成的组中的至少一个材料:聚偏二氯乙烯、偏二 氯乙烯-氯乙烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、聚氯乙烯、环氧 树脂、丙烯酸树脂、硅酮树脂、聚氨基甲酸酯树脂、聚酰亚胺树脂、 醋酸纤维素、硝酸纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯醇缩丁醛、聚 碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、尼龙、聚酰胺树脂、聚酯 树脂、丁苯橡胶树脂和聚对二甲苯。
6.根据权利要求2所述的放射线成像装置,其特征在于,
第一树脂和水滴的接触角度大于90°,以及
第二树脂和水滴的接触角度不大于90°。
7.根据权利要求1所述的放射线成像装置,其特征在于,所述传 感器面板和所述保护膜经由粘合部件被固定。
8.一种放射线成像装置,其特征在于包括:
传感器面板,其上排列多个传感器;
闪烁体,被布置在所述传感器面板上方,并由碱卤化物制成;以 及
保护膜,被配置为抑制所述闪烁体的潮解,
其中所述保护膜包括:
第一部分,覆盖所述闪烁体的侧面和所述闪烁体的在与基底部件 相对的一侧上的端部,以及
第二部分,其在氟含量上小于第一部分,并覆盖第一部分的表面 的至少一部分。
9.根据权利要求8所述的放射线成像装置,其特征在于还包括被 布置在所述闪烁体上方的基底部件,
其中所述闪烁体由多个柱状晶体制成,
第一部分覆盖所述闪烁体的各个柱状晶体的侧面和尖端,以及
所述基底部件由具有光反射性的材料制成。
10.根据权利要求8所述的放射线成像装置,其特征在于,所述 基底部件和所述保护膜经由粘合部件被固定。
11.一种放射线检查装置,其特征在于包括:
根据权利要求1至10中任一所述的放射线成像装置;和
被配置为处理来自所述放射线成像装置的信号的处理器。
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