[发明专利]压印装置、压印方法以及物品的制造方法有效

专利信息
申请号: 201610007113.3 申请日: 2016-01-05
公开(公告)号: CN105759566B 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 藤本正敬;山崎拓郎;船吉智美;山口裕充 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;H01L21/027
代理公司: 11293 北京怡丰知识产权代理有限公司 代理人: 迟军
地址: 日本东京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 压印 装置 方法 以及 物品 制造
【权利要求书】:

1.一种通过使用模具来对基板上的压印材料形成图案的压印装置,所述压印装置包括:

倾斜单元,其被构造为使所述模具和所述基板相对地倾斜;

检测单元,其被构造为检测由所述模具反射的光与由所述基板反射的光之间的干涉图案;以及

控制单元,其被构造为,基于在所述模具与所述基板上的压印材料彼此接触的状态下、由所述检测单元检测到的所述干涉图案,控制所述倾斜单元,以减小在所述状态下、所述模具和所述基板之间的相对倾斜,

其中,所述控制单元指定所述干涉图案在所述模具的图案存在的区域中的相对位置,并且基于所述干涉图案的相对位置来控制所述倾斜单元,使得所述模具与所述基板相对地倾斜。

2.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述控制单元通过从所述干涉图案中检测所述模具的图案存在的区域的边缘,指定所述干涉图案在所述区域中的相对位置。

3.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述控制单元控制所述倾斜单元,以减小所述干涉图案的中心与所述区域的中心之间的距离。

4.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述控制单元控制所述倾斜单元,使得所述倾斜变为不超过5微弧度。

5.根据权利要求1所述的压印装置,其中,所述控制单元基于所述干涉图案在所述区域中的位置,来获得所述倾斜的值。

6.根据权利要求5所述的压印装置,其中,所述控制单元参照指示所述干涉图案在所述区域中的位置、与所述模具和所述基板之间的相对倾斜之间的关系的信息,来获得所述倾斜的值。

7.根据权利要求1所述的压印装置,所述压印装置还包括:

存储单元,其被构造为存储指示由所述倾斜单元在所述状态下获得的所述模具和所述基板之间的相对倾斜量的信息,

其中,在所述信息被存储在所述存储单元中的情况下,所述控制单元基于所述信息控制所述倾斜单元。

8.根据权利要求7所述的压印装置,其中,所述存储单元针对所述基板上的各个投射区域,存储指示所述倾斜量的信息。

9.根据权利要求1所述的压印装置,所述压印装置还包括:

第一保持单元,其被构造为保持所述模具;

第二保持单元,其被构造为保持所述基板;

第一测量单元,其被构造为测量所述第一保持单元中保持的所述模具的倾斜;以及

第二测量单元,其被构造为测量所述第二保持单元中保持的所述基板的倾斜,

其中,所述控制单元基于所述第一测量单元和所述第二测量单元的测量结果,来控制所述倾斜单元,以减小在使所述模具与所述基板上的压印材料彼此接触之前的状态下、所述模具和所述基板之间的相对倾斜。

10.一种通过使用模具来对基板上的压印材料形成图案的压印方法,所述压印方法包括以下步骤:

在所述模具与所述基板上的压印材料彼此接触的状态下,检测由所述模具反射的光与由所述基板反射的光之间的干涉图案;以及

基于所述干涉图案,使所述模具和所述基板相对地倾斜,以减小在所述状态下、所述模具和所述基板之间的相对倾斜,

其中,上述倾斜步骤包括指定所述干涉图案在所述模具的图案存在的区域中的相对位置,并且基于所述相对位置使得所述模具与所述基板相对地倾斜。

11.一种物品的制造方法,所述制造方法包括以下步骤:

使用压印装置在基板上形成图案,并且

对在所述形成步骤中形成有所述图案的基板进行处理,

其中,所述压印装置通过使用模具来对所述基板上的压印材料形成图案,并且所述压印装置包括:

倾斜单元,其被构造为使所述模具和所述基板相对地倾斜;

检测单元,其被构造为检测由所述模具反射的光与由所述基板反射的光之间的干涉图案;以及

控制单元,其被构造为,基于在所述模具与所述基板上的压印材料彼此接触的状态下、由所述检测单元检测到的所述干涉图案,控制所述倾斜单元,以减小在所述状态下、所述模具和所述基板之间的相对倾斜,

其中,所述控制单元指定所述干涉图案在所述模具的图案存在的区域中的相对位置,并且基于所述干涉图案的相对位置来控制所述倾斜单元,使得所述模具与所述基板相对地倾斜。

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