[发明专利]压印装置、压印方法以及物品的制造方法有效

专利信息
申请号: 201610007113.3 申请日: 2016-01-05
公开(公告)号: CN105759566B 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 藤本正敬;山崎拓郎;船吉智美;山口裕充 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;H01L21/027
代理公司: 11293 北京怡丰知识产权代理有限公司 代理人: 迟军
地址: 日本东京都*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 压印 装置 方法 以及 物品 制造
【说明书】:

发明提供压印装置、压印方法以及物品的制造方法。所述压印装置通过使用模具来对基板上的压印材料形成图案,所述压印装置包括:倾斜单元,其被构造为使所述模具和所述基板相对地倾斜;检测单元,其被构造为检测由所述模具反射的光与由所述基板反射的光之间的干涉图案;以及控制单元,其被构造为,基于在所述模具与所述基板上的压印材料彼此接触的状态下、由所述检测单元检测到的所述干涉图案,控制所述倾斜单元,以减小在所述状态下、所述模具和所述基板之间的相对倾斜。

技术领域

本发明涉及压印装置、压印方法以及物品的制造方法。

背景技术

压印技术是通过使用模具对基板上的压印材料形成图案的技术。作为制造磁性存储介质和半导体设备的光刻技术中的一种,压印技术已受到关注。在模具和基板上的压印材料(例如,未固化的光可固化树脂)彼此接触的状态下,使用压印技术的压印装置使压印材料固化。然后,压印装置使基板与模具之间的间隔变宽,并且使模具从基板上的固化后的压印材料脱模,从而在基板上形成压印材料的图案。

在压印装置中,已知如下的技术:使模具的图案面相对于基板变形(弯曲)成凸形状,并且使模具与基板上的压印材料接触,以促进利用压印材料填充模具的图案的凹部。通过使模具与压印材料从模具的图案面的中心至外周彼此接触,能够容易地利用压印材料填充图案的凹部。这使得能够减少气泡残留。

当使压印材料固化时,为了防止在基板上形成的图案被后处理中的蚀刻处理影响,在压印装置中保持压印材料的厚度(残留层厚度)恒定是重要的。因此,有必要在模具的图案面和基板维持平行的状态下,使模具与压印材料彼此接触。日本特开第2007-299994号公报提出了与此相关的技术。日本特开第2007-299994号公报公开了如下技术:获得模具和基板的三维平坦度,并且基于该平坦度,控制当使模具与压印材料彼此接触时基板的姿势。

然而,在传统技术中,没有考虑到由使模具和基板上的压印材料彼此接触时生成的力(压力)而引起的模具和基板的变形。因此,仅利用基于模具和基板的三维平坦度来控制基板的姿势,当实际上使模具与基板上的压印材料彼此接触时,可能在模具与基板之间的平行度上发生偏差。

发明内容

本发明提供一种有利于减小在模具与压印材料彼此接触的状态下模具和基板之间的相对倾斜的压印装置。

根据本发明的第一方面,提供一种通过使用模具来对基板上的压印材料形成图案的压印装置,所述压印装置包括:倾斜单元,其被构造为使所述模具和所述基板相对地倾斜;检测单元,其被构造为检测由所述模具反射的光与由所述基板反射的光之间的干涉图案;以及控制单元,其被构造为,基于在所述模具与所述基板上的压印材料彼此接触的状态下、由所述检测单元检测到的所述干涉图案,控制所述倾斜单元,以减小在所述状态下、所述模具和所述基板之间的相对倾斜。

根据本发明的第二方面,提供一种通过使用模具来对基板上的压印材料形成图案的压印方法,所述压印方法包括以下步骤:在所述模具与所述基板上的压印材料彼此接触的状态下,检测由所述模具反射的光与由所述基板反射的光之间的干涉图案;以及基于所述干涉图案,使所述模具和所述基板相对地倾斜,以减小在所述状态下、所述模具和所述基板之间的相对倾斜。

根据本发明的第三方面,提供一种物品的制造方法,所述制造方法包括以下步骤:使用压印装置在基板上形成图案,并且处理在所述形成步骤中形成有所述图案的基板,其中,所述压印装置通过使用模具来对所述基板上的压印材料形成图案,并且所述压印装置包括:倾斜单元,其被构造为使所述模具和所述基板相对地倾斜;检测单元,其被构造为检测由所述模具反射的光与由所述基板反射的光之间的干涉图案;以及控制单元,其被构造为,基于在所述模具与所述基板上的压印材料彼此接触的状态下、由所述检测单元检测到的所述干涉图案,控制所述倾斜单元,以减小在所述状态下、所述模具和所述基板之间的相对倾斜。

通过以下参照附图对示例性实施例的描述,本发明的其他方面将变得清楚。

附图说明

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