[发明专利]光电设备通过光学涂层局部剥离而实现的精细线金属敷镀

权利要求书

1.一种在基材上制造金属栅格图案的方法，包括：

提供基材；

在所述基材上面提供金属薄膜；

在所述金属薄膜上面提供图案化的抗蚀体，所述图案化的抗蚀体暴露所述金属薄膜的第一部分并覆盖所述金属薄膜的第二部分；

移除金属薄膜的所暴露的第一部分以暴露所述基材的部分，所述移除产生了在图案化的抗蚀体下面的金属栅格图案；

在图案化的抗蚀体和所述基材的暴露部分的上面适形地沉积介电层；

在图案化的抗蚀体上面的介电层中提供一个或更多个开口，所述一个或更多个开口暴露图案化的抗蚀体的一部分；以及

藉由图案化的抗蚀体的所暴露的部分将图案化的抗蚀体暴露于抗蚀体移除机构，由此移除图案化的抗蚀体和图案化的抗蚀体上面的介电层，所述移除在所述基材上面留有基本共面的金属栅格图案和介电图案。

2.如权利要求1所述的方法，其中，在介电层中提供一个或更多个开口包括对介电层的一个或更多个部分进行选择性的激光照射。

3.如权利要求1所述的方法，其中，在介电层中提供一个或更多个开口包括提供介电层和图案化的抗蚀体的热处理以使图案化的抗蚀体的体积膨胀，图案化的抗蚀体的体积的膨胀在介电层中形成裂缝，所述裂缝暴露所述图案化的抗蚀体的部分。

4.如权利要求1所述的方法，移除金属薄膜的所暴露的第一部分进一步移除图案化的抗蚀体下面的一部分金属栅格图案，由此底切图案化的抗蚀体使得随后沉积在所述基材的暴露部分上面的介电层不接触金属栅格图案，由此提供所述介电层中的所述一个或更多个开口。

5.如权利要求1所述的方法，其中，移除金属薄膜的所暴露的第一部分导致所述图案化的抗蚀体适形地覆盖金属栅格图案，使得随后沉积在所述基材的暴露部分上面的介电层接触金属栅格图案且在介电层与金属栅格图案之间没有间隙。

6.如权利要求5所述的方法，其中，介电层接触金属栅格图案且之间没有间隙防止了沾污金属迁移入基材中。

7.一种根据权利要求1所述的方法形成的太阳能电池。