[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

常见的显示面板中，薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)阵列基板位于下层，彩膜基板位于上层。目前，为了实现窄边框甚至是无边框设计，会将TFT阵列基板设置在显示面板的上层，而将彩膜基板设置在显示面板的下层，从而，可大幅度窄化与PCB电路板贴合的导电端的边框，甚至实现无边框。

然而，针对这种窄边框或无边框设计，相当于将现有的显示面板倒置，使得TFT阵列基板靠近出光侧，因而，TFT阵列基板中的金属信号线，尤其是栅线会对进入的外界环境光造成反射，特别是外界环境光较强时，出光面的反射程度更为严重，从而，就会导致显示面板的对比度较差，影响显示效果。

发明内容

本发明实施例提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置，用以解决现有技术中存在的无边框显示装置的对比度较差的问题。

本发明实施例采用以下技术方案：

一种阵列基板，包括：衬底基板，位于所述衬底基板之上的信号线，还包括：

位于所述衬底基板与所述信号线之间的消光层，所述消光层用于在所述阵列基板位于出光侧时消减进入所述信号线的外界环境光，其中，所述信号线在所述衬底基板所在平面内的正投影与所述消光层在所述衬底基板所在平面内的正投影重合。

该实施例中的消光层能够消减部分外界环境光，从而减少进入信号线的外界环境光，相应的，信号线反射出的光线随之减少，从而改善了由于信号线反射外界环境光而导致显示对比度下降的问题。

可选地，所述消光层的材质为非晶硅单质或掺杂有非晶硅单质的半导体混合物。

在本发明实施例中，此类材质的消光层能够有效改善由于信号线反射外界环境光而导致显示对比度下降的问题。

可选地，所述消光层的厚度满足干涉消光公式：

d＝(2n+1)λ/4N(1)

其中，所述d为消光层的厚度，所述λ为可见光在空气中的波长，所述N为消光层的折射率，所述n为自然数。

在本发明实施例中，符合该干涉消光原理所限定的厚度的消光层能够实现对外界环境光的消减，有效改善由于信号线反射外界环境光而导致显示对比度下降的问题。

可选地，所述消光层的厚度为

在本发明实施例中，该厚度能够保证消光层尽可能多的消减外界环境光，减少进入信号线的环境光。

可选地，所述消光层中至少一表面设置有多个凸起结构。

在本发明实施例中，消光层的表面设置的多个凸起结构能够增加漫反射效果，减少进入信号线的外界环境光。

可选地，所述消光层中两个表面均设置有多个凸起结构。

在本发明实施例中，消光层的两个表面均设置有多个凸起结构，能够更为有效增加漫反射效果，减少进入信号线的外界环境光。

可选地，所述信号线为栅线或公共电极线。

在本发明实施例中，能够很好的解决栅线和公共电极线反射环境光的问题。

一种显示装置，包括所述的阵列基板，所述阵列基板位于该显示装置的出光面。

该实施例中的消光层能够消减部分外界环境光，从而减少进入信号线的外界环境光，相应的，信号线反射出的光线随之减少，从而改善了由于信号线反射外界环境光而导致显示对比度下降的问题。

一种制备所述的阵列基板的方法，包括：

提供一衬底基板；

利用一次构图工艺，在所述衬底基板之上形成图案化的消光层和信号线。

该实施例中通过一次构图工艺即可形成消光层和信号线，节省了工艺流程，简化了工艺复杂度。同时，制作而成的阵列基板的结构能够改善由于信号线反射外界环境光而导致显示对比度下降的问题。

可选地，利用一次构图工艺，在所述衬底基板之上形成图案化的消光层和信号线，具体包括：

在所述衬底基板的一表面依次沉积消光膜层和金属膜层；

利用掩膜版对所述金属膜层进行光刻工艺，形成图案化的信号线；

利用所述信号线的图案，对所述消光膜层进行刻蚀，形成与所述信号线相同图案的消光层。

可选地，在所述衬底基板的一表面依次沉积消光膜层和金属膜层之前，所述方法还包括：

将所述衬底基板置于真空腔室中，利用等离子气体对所述衬底基板的一表面进行粗糙化处理，以使得后续形成的消光层中靠近所述衬底基板的表面具有多个凸起结构。

可选地，在所述衬底基板的一表面依次沉积消光膜层和金属膜层，具体包括：