[发明专利]一种激光脉冲延时系统和激光退火系统有效

专利信息
申请号: 201610029044.6 申请日: 2016-01-15
公开(公告)号: CN105511030B 公开(公告)日: 2017-05-03
发明(设计)人: 许晓伟;李小龙;李良坚 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42;H01S3/10;B23K26/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 代理人: 黄志华
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 激光 脉冲 延时 系统 退火
【说明书】:

技术领域

发明涉及激光脉冲领域,尤其涉及一种激光脉冲延时系统和激光退火系统。

背景技术

目前,随着人类对激光技术的进一步研究和发展,激光器的性能将进一步提升,成本也在逐步降低,因而它的应用范围也在不断的扩大。然而,激光器在应用过程中,由于一次照射的时间非常短,因而需要激光进行多次重叠照射,同时,针对能量要求不高的操作时,还需要滤除一部分能量,造成能量的浪费。

例如,在AMOLED(Active-Matrix Organic Light Emitting Diode,有源矩阵有机发光二极体面板)显示屏技术中,其背板技术一般采用载流子迁移率较高的低温多晶硅薄膜晶体管作为驱动,而在制备多晶硅时,常采用激光退火的方法,即采用准分子激光器照射非晶硅薄膜,激光照射后的非晶硅会融化并重新结晶成为多晶硅,以500Hz的激光脉冲为例,每个脉冲占28ns,其他1972ns为空,在激光照射后的非晶硅会融化并重新结晶成为多晶硅,由于一次照射时间非常短(28ns)获得的晶粒尺寸很小,需要重叠照射以获得大的晶粒尺寸。同时出射激光能量一般是远大于非晶硅融化的能量,需要将这部分能量通过衰减装置滤除。因而,如何在不改变激光器内部结构的前提下,能尽量延长激光器一次照射的时长,并且针对能量要求不高的操作,如何应用多余的激光能量,从而提高激光工作能量的利用率,是本领域技术人员亟待解决的问题。

综上所述,如何延长激光器一次照射的时长,并充分利用能量要求不高的操作中多余的激光能量,从而提高激光工作能量的利用率,是本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

本发明实施例提供的一种激光脉冲延时系统和激光退火系统,用以解决现有技术中存在的如何延长激光器一次照射的时长,并充分利用能量要求不高的操作中多余的激光能量,从而提高激光工作能量的利用率,是本领域技术人员亟待解决的问题。

本发明实施例提供的一种激光脉冲延时系统,包括:设置在激光光束的传输光路上的分光单元、第一反射单元和延时单元,其中,

所述分光单元,用于将激光器发射的激光光束进行分光,分成第一基准光和第二基准光,并将所述第一基准光传输至所述第一反射单元,以及将所述第二基准光传输至所述延时单元;

所述第一反射单元,用于将接收到的所述第一基准光反射至待照射的部件;

所述延时单元,用于将接收到的所述第二基准光进行延时后,传输至所述待照射的部件;

其中,在一个激光脉冲周期内,照射到所述待照射的部件上的激光光束的总脉冲时长大于所述激光器发射的激光光束的脉冲时长。

由于本发明的激光脉冲延时系统中设置了分光单元,可以将激光器发射的一束激光束分成第一基准光和第二基准光,并直接将第一基准光反射至待照射的部件上;将第二基准光通过延时单元进行延时之后,传输至待照射的部件上;进而实现了将一束激光光束分成两束光,并通过对其中一束光进行延时,使分成的两束基准光能够分别照射到待照射的部件上,因而在一个激光脉冲周期内,照射到待照射的部件上的激光光束的总脉冲时长大于激光器发射的激光光束的脉冲时长,这样不仅相当于延长了激光器一次照射的时长,并充分的利用了激光光束的能量,提高了激光工作能量的利用率。

可选的,所述分光单元为半透半反镜。

可选的,所述第一基准光和所述第二基准光的传输光路互相垂直。

可选的,所述第一基准光为所述激光光束经过所述半透半反镜后生成的反射光,所述第二基准光为所述激光光束经过所述半透半反镜后生成的透射光;或,

所述第一基准光为所述激光光束经过所述半透半反镜后生成的透射光,所述第二基准光为所述激光光束经过所述半透半反镜后生成的反射光。

可选的,所述第一反射单元为反射镜;

所述分光单元,具体用于将接收到的经过所述反射镜反射后的第一基准光进行透射后,传输至所述待照射的部件。

可选的,所述延时单元包括:第二反射单元、以及驱动所述第二反射单元按照周期性轨迹转动的驱动单元;

其中,所述第二反射单元具有开口、以及能够使所述第二基准光在所述第二反射单元内部进行反射的反射面;

所述第二反射单元的开口,用于入射所述第二基准光,并在驱动单元驱动所述第二反射单元的开口转动到同一位置时,将在所述第二反射单元中经过反射延时后的第二基准光出射至所述分光单元;

所述分光单元,具体用于将接收到的所述经过反射延时后的第二基准光进行透射后,传输至所述待照射的部件。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610029044.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top