[发明专利]触摸面板以及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201610033720.7 申请日: 2016-01-19
公开(公告)号: CN105629545A 公开(公告)日: 2016-06-01
发明(设计)人: 郝思坤 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G06F3/041;G02F1/1343
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 触摸 面板 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种触摸面板,其包括:

基板;

第一金属层,位于所述基板上,用来形成薄膜晶体管的栅极;

栅级绝缘层,位于所述第一金属层上;

其特征在于,所述阵列基板另包含:

第二金属层,位于所述栅级绝缘层上,用来形成触控控制线、所述薄膜 晶体管的源极和漏极,所述触控控制线用于传送触控信号以及公共电压;

隔离层,位于所述第二金属层上,并设置贯穿所述隔离层的第一通孔和 第二通孔,所述第一通孔对准所述源极或漏极,所述第二通孔对准所述触控 控制线;

像素电极层,通过所述第一通孔与所述源极或漏极连接;

触控电极层,通过所述第二通孔与所述触控控制线连接,

其中,所述触控电极层同时作为公共电极层。

2.根据权利要求1所述的触摸面板,其特征在于,所述像素电极层和所 述触控电极层是由一导电层同时所形成。

3.根据权利要求2所述的触摸面板,其特征在于,所述导电层是氧化铟 锡或是金属构成。

4.根据权利要求1所述的触摸面板,其特征在于,所述第二金属层还包 括数据线,所述数据线用来通过所述薄膜晶体管传递数据电压至所述像素电 极层。

5.根据权利要求4所述的触摸面板,其特征在于,当所述触控控制线传 送所述公共电压至所述触控电极层时,所述数据线用来通过所述薄膜晶体管 传递数据电压至所述像素电极层。

6.根据权利要求4所述的触摸面板,其特征在于,当所述触控控制线传 送所述触控信号至所述触控电极层时,所述数据线停止通过所述薄膜晶体管 传递数据电压至所述像素电极层。

7.一种制造触摸面板的方法,其包括:

形成第一金属层于基板上;

蚀刻所述第一金属层以形成薄膜晶体管的栅极;

形成栅级绝缘层于所述薄膜晶体管的栅极上;

形成第二金属层于所述栅级绝缘层上;

蚀刻所述第二金属层以形成触控控制线、所述薄膜晶体管的源极和漏极;

形成隔离层于所述触控控制线、所述薄膜晶体管的源极和漏极之上;

蚀刻所述隔离层以形成贯穿所述隔离层的第一通孔和第二通孔,所述第 一通孔对准所述源极或漏极,所述第二通孔对准所述触控控制线;

沉积导电层于所述隔离层、所述触控控制线、所述源极或漏极上;以及

蚀刻所述导电层以形成像素电极层和触控电极层,所述像素电极层通过 所述第一通孔与所述源极或漏极连接,所述触控电极层通过所述第二通孔与 所述触控控制线连接,其中,所述触控电极层同时作为所述阵列基板的公共 电极层。

8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述导电层是氧化铟锡或 是金属构成。

9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,蚀刻所述第二金属层以形 成触控控制线、所述薄膜晶体管的源极和漏极的步骤包含:蚀刻所述第二金 属层以形成数据线,所述数据线用来通过所述薄膜晶体管传递数据电压至所 述像素电极层。

10.根据权利要求9所述的方法,其特征在于,在形成所述第二金属层 于所述栅级绝缘层上的步骤之前,所述方法另包含:

形成非晶硅层于所述栅级绝缘层上;及

蚀刻所述非晶硅层以形成所述薄膜晶体管的半导体层。

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