[发明专利]照明光学部件、照明系统、投射曝光设备及组件制造方法

说明书

本发明涉及照明光学部件、照明系统、投射曝光设备以及制造结构化组件的方法。用于光刻投射曝光的照明光学部件(7；28)，用于具有小于193nm的波长的照明光(3)的光束从辐射源(2)向物平面(5)中的物场(4)中的物体(12)的无分束器引导，所述物体(12)对于所述照明光(3)是反射式的，其特征在于其被设计为使得对于所述物场(4)的至少一个点，所述照明光(3)的光束至所述物场(4)的能量加权光线的入射方向(13)与所述物平面(5)的法线(14)构成小于3°的角度。

本申请是申请日为2010年12月3日、申请号为201080063805.0(国际申请号为PCT/EP2010/068782)、发明名称为“成像光学部件”的发明专利申请的分案申请。

通过引用将美国临时申请US 61/286,066的内容合并于此。

技术领域

本发明涉及用于光刻投射曝光的照明光学部件，包含该类型成像光学部件和该类型照明光学部件的照明系统，包含该类型照明系统的投射曝光设备，依靠该类型投射曝光设备的微结构和纳米结构组件的制造方法，以及根据该类型方法制造的微结构和纳米结构组件。

背景技术

从US 2009/0073392 A1，从US 2008/0170310 A1，以及从US 6 894 834 B2已知投射曝光设备。

发明内容

本发明的一个方面涉及成像光学部件，其允许以高成像质量成像反射式物体。

根据本发明，已发现小于3°的物场点的主光线角度导致反射式物体上的遮挡效应(shading effect)的减少或完全避免。物场点的主光线被定义为在各个物场点和成像光学部件的光瞳中心之间的连线，即使例如由于光瞳遮蔽(obscuration)而没有实际成像光线能够沿着主光线通过成像光学部件。位于整个物场的至少一半的范围中的物场点的主光线角度可小于3°。所有物场点的主光线角度也可小于3°。本发明的主光线角度可小于2°，可小于1°，并且特别地可为0°。因此可避免在具有6°或8°的主光线角度的传统系统中出现的不希望有的遮挡问题。从而产生允许以有利的小CD(临界尺寸)变化成像反射式物体的成像光学部件。具有本发明主光线角度的大孔径成像光学系统中的物方成像光线的最大反射角度尽可能小，结果遮挡问题被最小化。本发明的成像光学部件被设计用于无分束器(beam-splitter-free)成像。在成像光路中，因此没有如在特定现有技术照明系统中(例如在根据US 6,894,834B2的图6的照明中)使用的、用于耦合(couple in)照明光以及用于通过成像光的分束器。在满足以下条件的情况下设置本发明的近场反射镜M：

P(M)＝D(SA)/(D(SA)+D(CR))≤0.9

该方程式中，D(SA)为自物场点发出的光线束在反射镜M处的子孔径直径，而D(CR)为由成像光学部件成像的有效物场的主光线在反射镜M的表面上的最大距离，其在光学系统的参考平面中测量。参考平面可为成像光学部件的对称平面或子午面。参数P(M)的定义与WO 2009/024 164 A1中说明的参数P(M)一致。

在场平面中，P(M)为0。在光瞳面中，P(M)为1。

在US 6 894 834 B2的实施例中，对于所有反射镜，P(M)大于0.9。

成像光学部件的至少一个反射镜可具有不大于0.8，不大于0.7，不大于0.65或者甚至不大于0.61的P(M)值。若干反射镜也可具有小于0.9，小于0.8或者甚至小于0.7的P(M)值。