[发明专利]清洗装置及其使用方法有效
申请号: | 201610035176.X | 申请日: | 2016-01-19 |
公开(公告)号: | CN105629530B | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 井杨坤 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 11138 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 鞠永善 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 装置 及其 使用方法 | ||
本发明公开了一种清洗装置及其使用方法,属于显示领域。所述清洗装置包括:喷出组件,喷出组件包括两个结构件,两个结构件之间形成有间隙,间隙的大小能够调节,清洗液能够从间隙向待清洗结构的待清洗表面喷出,且清洗液的喷出方向与待清洗表面存在倾角。本发明解决了基板清洗的效果较差的问题,提高了清洗的效果,本发明用于基板的清洗。
技术领域
本发明涉及显示领域,特别涉及一种清洗装置及其使用方法。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示屏(英文:Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay;简称:TFT-LCD)因其体积小、功耗低、无辐射等特点得到了广泛的应用。
薄膜晶体管液晶显示屏包括至少一个基板,在制造薄膜晶体管液晶显示屏时,需要使用清洗装置对基板进行清洗。相关技术中,清洗装置包括多个喷嘴和加压器,喷嘴能够喷出清洗液,加压器能够向喷嘴喷出的清洗液加压。在使用清洗装置清洗基板时,首先控制该多个喷嘴朝向基板的待清洗表面喷清洗液,然后控制加压器向每个喷嘴喷出的清洗液加压,使得基板上的杂质能够在压力较大的清洗液的冲洗下,脱离基板的待清洗表面,完成对基板的清洗。
由于相关技术中,加压器向多个喷嘴喷出的清洗液施加的压力不同,使得喷嘴喷出的清洗液对基板表面各个位置的清洗力度不同,因此,基板清洗的效果较差。
发明内容
为了解决基板清洗的效果较差的问题,本发明提供了一种清洗装置及其使用方法。所述技术方案如下:
一方面,提供了一种清洗装置,所述清洗装置包括:喷出组件,所述喷出组件包括两个结构件,
所述两个结构件之间形成有间隙,所述间隙的大小能够调节,清洗液能够从所述间隙向待清洗结构的待清洗表面喷出,且所述清洗液的喷出方向与所述待清洗表面存在倾角。
可选的,所述清洗装置还包括:第一控制组件,所述第一控制组件与所述两个结构件中的至少一个结构件连接,用于调节所述间隙的大小。
可选的,所述第一控制组件用于控制所述两个结构件中的至少一个结构件移动,调节所述间隙的大小。
可选的,所述第一控制组件还用于控制所述喷出组件沿预设轴线转动,改变所述清洗液的喷出方向。
可选的,所述两个结构件均为块状结构,且所述两个结构件相互靠近的面为相互平行的平面,所述相互平行的平面形成间隙。
可选的,所述清洗装置还包括:检测组件,所述检测组件与所述第一控制组件相连接,
所述检测组件用于检测所述待清洗表面的微粒数量,在检测到的微粒数量大于预设数量阈值时,将所述检测到的微粒数量发送至所述第一控制组件;
所述第一控制组件用于根据所述检测到的微粒数量,减小所述间隙,所述间隙的大小与所述检测到的微粒数量成反比。
可选的,所述清洗装置还包括:两块防溅板,
所述喷出组件位于所述两块防溅板之间,且所述两块防溅板分别位于在所述两个结构件所在的两侧。
可选的,所述喷出组件上喷出所述清洗液的位置为出液位置,所述两个结构件中存在至少一个结构件靠近所述出液位置的一端为楔形结构,且所述楔形结构的尖端靠近所述出液位置。
可选的,所述两个结构件中的至少一个结构件能够发生弹性形变。
可选的,所述清洗装置还包括第二控制组件和两个平行导轨,所述待清洗结构位于所述两个平行导轨之间,所述待清洗结构能够沿所述两个平行导轨的延伸方向运动,所述喷出组件设置在所述两个平行导轨上,
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